[发明专利]包括流体腔室阵列的夹具系统无效

专利信息
申请号: 200780012009.2 申请日: 2007-03-26
公开(公告)号: CN101415535A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: A·切罗拉;B-J·乔伊;P·B·拉德;S·C·沙克尔顿 申请(专利权)人: 分子制模股份有限公司
主分类号: B29C59/00 分类号: B29C59/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 浦易文
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及固定基底的夹紧系统,其中所述系统包括:夹具本体,其具有相反的第一侧和第二侧,所述第一侧包括成行列布置的流体腔室阵列,所述流体腔室各包括间隔开的第一凹陷和第二凹陷,形成间隔开的第一和第二支承区域,所述第一支承区域环绕所述第二支承区域和所述第一凹陷和第二凹陷,所述第二支承区域环绕所述第二凹陷,所述基底抵靠所述第一和第二支承区域搁置,所述第一凹陷和所述基底的与所述第一凹陷互相重叠的一部分形成第一腔室,而所述第二凹陷和所述基底的与所述第二凹陷互相重叠的一部分形成第二腔室;所述第一腔室的每一列和所述第二流体腔室的每一行与不同的流体源流体地连通,以控制所述流体腔室阵列中的流体流动。
搜索关键词: 包括 流体 阵列 夹具 系统
【主权项】:
1. 一种固定基底的夹紧系统,所述系统包括:夹具本体,所述夹具本体具有相反的第一侧和第二侧,所述第一侧包括流体腔室,所述流体腔室包括间隔开的第一凹陷和第二凹陷,形成间隔开的第一支承区域和第二支承区域,所述第一支承区域环绕所述第二支承区域和所述第一凹陷和第二凹陷,所述第二支承区域环绕所述第二凹陷,所述基底抵靠所述第一支承区域和第二支承区域搁置,所述第一凹陷和所述基底的与所述第一凹陷互相重叠的一部分形成第一腔室,而所述第二凹陷和所述基底的与所述第二凹陷互相重叠的一部分形成第二腔室;所述第一腔室和所述第二腔室与不同的流体源流体连通,以控制所述流体腔室中的流体流动。
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