[实用新型]一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置无效

专利信息
申请号: 200720305900.2 申请日: 2007-11-23
公开(公告)号: CN201151741Y 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 赵嘉昊;邓飞 申请(专利权)人: 国家纳米技术与工程研究院
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300457天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置,由外承压密闭容器和内反应罐组成;内反应罐由罐盖、罐体和搁置架构成;罐体和罐盖为螺纹连接的封闭容器;搁置架为半圆筒形结构,在半圆筒的内壁开出间距相等的搁置槽,搁置架的顶部设有可方便移动搁置架的卡入式横梁;内反应罐的所有部件均由聚四氟乙烯制成;外承压密闭容器可使用市售符合国家标准的炊用压力锅。本实用新型的优点是结构简单、操作简便、安全可靠;内反应罐的连接方式使其密封效果更好;外承压密闭容器承压要求较低,可直接使用市售符合国家标准的炊用压力锅进行操作,大大降低生产成本;采用该搁置架可大大提高反应效率,实现硅晶片加工的规模化生产。
搜索关键词: 一种 用于 电化学 金属 沉积 加工 晶片 反应 装置
【主权项】:
1.一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置,其特征在于:由外承压密闭容器和内反应罐组成;内反应罐由罐盖、罐体和搁置架构成;罐体和罐盖为螺纹连接的封闭容器,其中罐体为外螺纹;搁置架为半园筒形结构,在半园筒的内壁开出间距相等的搁置槽,搁置架的顶部设有可方便移动搁置架的卡入式横梁。
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