[实用新型]一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置

权利要求书

1.一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置，其特征在于：由外承压密闭容器和内反应罐组成；内反应罐由罐盖、罐体和搁置架构成；罐体和罐盖为螺纹连接的封闭容器，其中罐体为外螺纹；搁置架为半园筒形结构，在半园筒的内壁开出间距相等的搁置槽，搁置架的顶部设有可方便移动搁置架的卡入式横梁。

2.根据权利要求1所述的用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置，其特征在于：内反应罐的罐盖、罐体、搁置架和卡入式横梁均由聚四氟乙烯制成。    

3.根据权利要求1所述的用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置，其特征在于：外承压密闭容器为市售符合国家标准的铝合金或不锈钢制炊用压力锅。