[实用新型]基底单面分子自组装超薄膜制备装置无效
| 申请号： | 200720088095.2 | 申请日： | 2007-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN201096722Y | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 曾昭睿;雷云;戴明 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G01N21/55 | 分类号： | G01N21/55 |
| 代理公司： | 武汉华旭知识产权事务所 | 代理人： | 张火春;刘荣 |
| 地址： | 43007*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置，属超薄膜制备技术领域。它由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成，使用时，将待修饰的基底置于粘合在螺纹底座上端的圆形载玻片正中位置，再将聚四氟密封垫贴合于基底表面上，然后将带孔圆形封盖拧紧，通过圆形封盖的中心孔往聚四氟密封垫内加入一定量的反应溶液，薄膜封口，防止溶液挥发。待反应完成后，取出基底，得到仅在基底一面吸附的分子自组装超薄膜。该装置具有成本低廉、结构简单、操作方便等特点，可满足不同温度条件下在基底单面自组装成膜的需求，实用性强，适用面广。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 单面 分子 组装 薄膜 制备 装置 | ||
【主权项】：
1、一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置，其特征在于：由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成，它们自上而下依次排列。
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