[实用新型]基底单面分子自组装超薄膜制备装置无效
| 申请号： | 200720088095.2 | 申请日： | 2007-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN201096722Y | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 曾昭睿;雷云;戴明 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G01N21/55 | 分类号： | G01N21/55 |
| 代理公司： | 武汉华旭知识产权事务所 | 代理人： | 张火春;刘荣 |
| 地址： | 43007*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基底 单面 分子 组装 薄膜 制备 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置，其特征在于：由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成，它们自上而下依次排列。
2、根据权利要求1所述的基底单面分子自组装超薄膜制备装置，其特征在于：所述圆形封盖上开有一个孔，其封盖内螺纹与螺纹底座相吻合。
3、根据权利要求1所述的基底单面分子自组装超薄膜制备装置，其特征在于：所述聚四氟密封垫为中空垫，其直径小于圆形封盖直径；所述圆形载玻片直径不大于螺纹底座上端直径。
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