[发明专利]用于真空薄膜制程的转盘式连续溅镀机无效

专利信息
申请号: 200710187363.0 申请日: 2007-11-23
公开(公告)号: CN101440474A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 陈政勋;姚朝祯 申请(专利权)人: 钰衡科技股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/50
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 代理人: 周春发
地址: 台湾省台南县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明关于一种用于真空薄膜制程的转盘式连续溅镀机,包括:一腔体、复数个溅镀源、一转盘、一分割器、一主要气缸以及一辅助气缸;其中,该溅镀源设置于该腔体上,该转盘则设置于该腔体之中作旋转运动,且该转盘中央连接一转轴,由该分割器连接该转轴以驱使该转盘转动;此外,该主要气缸用于升降该转盘,该辅助气缸用以区分大气侧及真空侧。
搜索关键词: 用于 真空 薄膜 转盘 连续 溅镀机
【主权项】:
1、一种用于真空薄膜制程的转盘式连续溅镀机,包括:一腔体,设有一进料取料区及复数个溅镀区,以及对应于该进料取料区的一盖板;复数个溅镀源,设置于该腔体上,对应于该复数个溅镀区;一转盘,设置于该腔体中作旋转运动,设有复数个工件置放区对应于该进料取料区及溅镀区,该转盘中央连接一转轴;一分割器,连接于该转轴,使该转盘作旋转运动;一主要气缸,用以升降该转盘;以及一辅助气缸,用以区分大气侧及真空侧。
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