[发明专利]提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置有效
申请号: | 200710177986.X | 申请日: | 2007-11-23 |
公开(公告)号: | CN101440931A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 胡镔;邓蓉;范小礼 | 申请(专利权)人: | 北京美联华新测控技术有限公司;中国航天科工集团第二研究院二〇七所 |
主分类号: | F21V7/09 | 分类号: | F21V7/09 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100040北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种反光装置,特别是一种提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,包括:抛物面反光镜、设于抛物面反光镜焦点上的氙灯光源,其特征在于:所述抛物面反光镜的镜口平面上扣设一中心设有透光孔的球面反光镜,球面反光镜的球心与抛物面反光镜的焦点重合。本发明光利用率高,能将99%以上的氙灯所发光变成平行光由透光孔射出。由透光孔射出的平行光强度高,照射距离远。 | ||
搜索关键词: | 提高 利用率 减小 照射 面积 反光 装置 | ||
【主权项】:
1、一种提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,包括:抛物面反光镜、设于抛物面反光镜焦点上的氙灯光源,其特征在于:所述抛物面反光镜的镜口平面上扣设一中心设有透光孔的球面反光镜,球面反光镜的球心与抛物面反光镜的焦点重合。
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