[发明专利]提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置有效
申请号: | 200710177986.X | 申请日: | 2007-11-23 |
公开(公告)号: | CN101440931A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 胡镔;邓蓉;范小礼 | 申请(专利权)人: | 北京美联华新测控技术有限公司;中国航天科工集团第二研究院二〇七所 |
主分类号: | F21V7/09 | 分类号: | F21V7/09 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100040北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 利用率 减小 照射 面积 反光 装置 | ||
1.一种提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,包括:抛物面反光镜、设于抛物面反光镜焦点上的氙灯光源,所述抛物面反光镜的镜口平面上扣设一中心设有透光孔的球面反光镜,球面反光镜的球心与抛物面反光镜的焦点重合,其特征在于:所述抛物面反光镜的镜口直径D=2P(tgα+((tgα)2+1)1/2),其中P=2倍焦距;α为2~5°;镜口边缘至焦点的连线与镜口平面之间的夹角为α。
2.根据权利要求1所述的提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,其特征在于:所述球面反光镜的半径R=D/(2Sin50°)。
3.根据权利要求1所述的提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,其特征在于:所述氙灯灯轴与所述抛物面反光镜的轴线重合,且氙灯发光中心位于抛物面反光镜的焦点。
4.根据权利要求1所述的提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,其特征在于:所述透光孔上设有透明保护罩。
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