[发明专利]校准装置以及校准方法有效
| 申请号： | 200710148913.8 | 申请日： | 2007-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN101144910A | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 冈室琢磨;奥村资纪;太田睦彦;后藤和敏;柳泽功;稻冈靖雄 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10;G02B27/00;G02B21/00;G02B7/00;B41J25/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种校准装置以及校准方法，其能将光学机构的光轴容易地调整为正规的状态且有助于高精度的校准。本发明的校准装置包括：掩模(410)，其为透明部件，设置有与校准标记(22)对位的基准标记(401)；反射镜(700)，其设置于掩模(410)和构件之间；光学机构，其光轴(L)从掩模(410)的与反射镜(700)相反的一侧经由基准标记(401)朝向反射镜(700)的方向，能同时观察基准标记(401)和映在反射镜(700)上的基准标记(401)的虚像；和调整机构，其根据通过光学机构进行的观察来进行光轴(L1、L2)的光轴调整，使得基准标记(401)的实像和映在反射镜(700)上的基准标记(401)的虚像(701)重合。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种校准装置，其在对设有多个对位用校准标记的多个构件的每一个进行相对定位并接合时使用，包括：掩模，其为透明部件，设置有与所述校准标记对位的基准标记；反射镜，其设置在所述掩模与所述构件之间；光学单元，其构成为：光轴从所述掩模的与所述反射镜相反的一侧经由所述基准标记朝向所述反射镜的方向，能同时观察所述基准标记和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像；和调整单元，其基于通过所述光学单元进行的所述观察，来进行所述光轴的光轴调整，使得所述基准标记的实像和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像重合。
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