[发明专利]校准装置以及校准方法有效
申请号: | 200710148913.8 | 申请日: | 2007-09-12 |
公开(公告)号: | CN101144910A | 公开(公告)日: | 2008-03-19 |
发明(设计)人: | 冈室琢磨;奥村资纪;太田睦彦;后藤和敏;柳泽功;稻冈靖雄 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B27/10 | 分类号: | G02B27/10;G02B27/00;G02B21/00;G02B7/00;B41J25/24 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 校准 装置 以及 方法 | ||
1.一种校准装置,其在对设有多个对位用校准标记的多个构件的每一个进行相对定位并接合时使用,包括:
掩模,其为透明部件,设置有与所述校准标记对位的基准标记;
反射镜,其设置在所述掩模与所述构件之间;
光学单元,其构成为:光轴从所述掩模的与所述反射镜相反的一侧经由所述基准标记朝向所述反射镜的方向,能同时观察所述基准标记和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像;和
调整单元,其基于通过所述光学单元进行的所述观察,来进行所述光轴的光轴调整,使得所述基准标记的实像和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像重合。
2.如权利要求1所述的校准装置,其特征在于,
按照以下方式配置反射镜:在设从所述掩模的基准标记到所述构件的校准标记的距离为d时,从所述基准标记到所述反射镜的距离为(1/2)·d。
3.如权利要求1所述的校准装置,其特征在于,
所述掩模具有沿着所述光轴并向校准标记突出的凸部,在该凸部设置有基准标记。
4.如权利要求1所述的校准装置,其特征在于,
所述光学单元由多台构成,分别具有独立的多个光轴。
5.如权利要求1所述的校准装置,其特征在于,
所述光学单元由双焦点显微镜构成,该双焦点显微镜的共用光轴的其中一个光学系统使焦点与所述基准标记的实像对准,并且另一个光学系统使焦点与所述基准标记映在所述反射镜上的虚像对准。
6.如权利要求1所述的校准装置,其特征在于,
所述构件是液体喷射头。
7.一种校准方法,在对设有多个对位用校准标记的多个构件的每一个进行相对定位并接合时使用,包括:
按照使掩模和反射镜相对置的方式在所述掩模与所述构件之间配置所述反射镜的工序,所述掩模为透明部件,设置有分别与所述校准标记对位的基准标记,所述反射镜映现所述基准标记的像并形成其虚像;
通过光学单元同时观察所述基准标记和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像的工序,所述光学单元的光轴从所述掩模侧朝向所述反射镜的方向;和
根据通过所述光学单元进行的所述观察来进行所述光轴的光轴调整,使得所述基准标记的实像和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像重合的工序。
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