[发明专利]校准装置以及校准方法有效

专利信息
申请号: 200710148913.8 申请日: 2007-09-12
公开(公告)号: CN101144910A 公开(公告)日: 2008-03-19
发明(设计)人: 冈室琢磨;奥村资纪;太田睦彦;后藤和敏;柳泽功;稻冈靖雄 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B27/10 分类号: G02B27/10;G02B27/00;G02B21/00;G02B7/00;B41J25/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 校准 装置 以及 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及校准装置以及校准方法,尤其涉及在将光学机构的光轴调整为规定状态时使用且有用的校准装置以及校准方法。

背景技术

喷墨式打印机或绘图仪等的喷墨式记录装置具备喷墨式记录头单元(以下称作头单元),该喷墨式记录头单元包括喷墨式记录头,该喷墨式记录头将收容于墨盒或墨槽等液体收容部中的墨水以墨滴形式喷出。这里,喷墨式记录头具有并排设置的喷嘴开口所构成的喷嘴列,通过盖头(coVer head)保护该墨喷出面侧。盖头具有窗框部和侧壁部,通过将侧壁部接合到喷墨式记录头的侧面来固定盖头,其中,所述窗框部设于喷墨式记录头的墨滴喷出面侧,具有使喷嘴开口露出的开口窗部,所述侧壁部从窗框部弯曲成形于喷墨式记录头的侧面一侧(例如参照专利文献1)。

另外,在接合所述盖头和多个喷墨式记录头或接合固定板等的固定部件和多个喷墨式记录头时,按照在喷墨式记录头的喷嘴板上设置的校准标记和设于平板状的玻璃掩模上的基准标记一致的方式,使喷墨式记录头相对于固定部件移动,来进行规定的定位。进一步详细而言,利用光学机构同时观察基准标记和在位置上与其对应的基准标记,调整喷墨式记录头的位置以使两者的位置重合,上述光学机构的光轴从掩模侧经基准标记朝向校准标记的方向。因此,光学机构的光轴优选正确地朝向基准标记以及校准标记的方向。

尤其是,为了实现校准的迅速化以及合理化,而考虑对于作为构件(work)的一个喷墨式记录头采用两台显微镜等的光学机构来同时观察两个校准标记,从而一次进行与两处校准标记的对位,但此时需要进行调整,以使各光学机构不产生相对的光轴错位。

作为与该种光轴对准相关的现有技术,存在以下所述的技术(参照专利文献2):考虑到因光轴和校准标记、构件之间的倾斜而导致的校准标记的错位量来进行校准。

专利文献1:特开2002-160376号公报(第4页、图3)

专利文献2:特开2001-153608号公报(第4页、图2)

但是,在上述现有技术的光轴对准方法中,不仅需要运算错位量,而且还要根据由运算求得的错位量来进行修正,所以不能视觉确认校准标记,难以进行校准。

另外,上述问题不仅在制造喷墨式记录头单元而进行校准时产生,而且在制造其他液体喷射头单元而进行校准时也会出现。

发明内容

本发明鉴于上述现有技术而实现,其目的在于提供一种校准装置以及校准方法,其能将光学机构的光轴容易地调整为正规的状态且有助于高精度的校准。

解决上述问题的本发明的第一方式是:一种校准装置,其在对设有多个对位用校准标记的多个构件的每一个进行相对定位并接合时使用,包括:掩模,其为透明部件,设有与所述校准标记对位的基准标记;反射镜,其设于所述掩模和所述构件之间;光学机构,其光轴从所述掩模的与所述反射镜相反的一侧经由所述基准标记朝向所述反射镜的方向,能同时观察所述基准标记和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像;和调整机构,其根据通过所述光学机构进行的所述观察来进行所述光轴的光轴调整,使得所述基准标记的实像和映在所述反射镜上的所述基准标记的虚像重合。

根据本方式,由于根据通过光学机构进行的观察调整光轴,以使基准标记的实像和映在反射镜上的虚像重合,所以该调整结束时刻的光轴垂直于掩模。由此,若进行校准以使基准标记和校准标记位于该光轴上则能进行高精度的构件的定位。

本发明的第二方式是:在上述第一方式记载的校准装置中,按照以下方式配置反射镜:在设从所述掩模的基准标记到所述构件的校准标记的距离为d时,从所述基准标记到所述反射镜的距离为(1/2)·d。

根据本方式,由于能使映在反射镜的基准标记的虚像的位置与构件的校准标记的位置一致,所以若虚像处于光学机构的对焦位置,则能自动地使焦点与校准时的校准标记对准。由此,能容易地进行对焦和高精度的定位。

本发明的第三方式是:在上述第一或第二方式记载的校准装置中,所述掩模具有沿着所述光轴并朝向校准标记突出的凸部,在该凸部设置了基准标记。

根据本方式,通过缩小基准标记和校准标记之间的距离,结果能尽可能地减少光轴的错位,另外能用厚的部件、即具有足够刚性的部件来支撑掩模,不会因所述部件的挠曲等引起错位,所以能进行更高精度的定位。

本发明的第四方式是:在上述第一~第三方式中任一项记载的校准装置中,所述光学机构由多台构成,分别具有独立的多个光轴。

根据本方式,能简单地调整光学机构的光轴,这也适用于多个光学机构的各光轴的相对调整。调整后的光轴都垂直于掩模面。

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