[发明专利]布图的检查装置、检查方法以及半导体装置的制造方法无效
| 申请号： | 200710142159.7 | 申请日： | 2007-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN101109711A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 井上广;渡边智英;吉川绫司 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;H01L21/66;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在检查对象的尺寸在检查光的波长以下，也能够进行高分辨度检查的布图检查装置、布图检查方法以及半导体装置的制造方法。检查装置具有用来通过透过光进行检查的第1投光系统、用来通过反射光进行检查的第2投光系统中的至少一个，用来通过对在检查对象上的布图图像进行摄像的检查光学系统，用来承载并移动上述检查对象的台子，用来增强在上述布图上衍射的光的衍射光控制单元。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 装置 方法 以及 半导体 制造 | ||
【主权项】：
1.一种布图检查装置，其特征在于包括：用于通过透过光进行检查的第1投光系统、用于通过反射光进行检查的第2投光系统中的至少一个；检查光学系统，对在检查对象上的布图图像进行摄像；台子，用来承载并移动上述检查对象；以及衍射光控制单元，用来增强由上述布图衍射的光。
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