[发明专利]布图的检查装置、检查方法以及半导体装置的制造方法

权利要求书

1.一种布图检查装置，其特征在于包括：

用于通过透过光进行检查的第1投光系统、用于通过反射光进行检查的第 2投光系统中的至少一个；

检查光学系统，对在检查对象上的布图图像进行摄像；

台子，用来承载并移动上述检查对象；以及

衍射光控制单元，用来增强由上述布图衍射的光。

2.一种布图检查方法，是通过对检查对象上的布图进行摄像来进行检查的 布图检查方法，其特征在于包括：

设定上述衍射光控制单元的照射条件以便增强由上述布图衍射的光，进行 检查的步骤。

3.如权利要求2所述的布图检查方法，其特征在于还包括：

传送含有上述布图的信息的检查数据的步骤；以及

产生基于上述检查数据包含上述照射条件的检查工序的步骤。

4.如权利要求2或3所述的布图检查方法，其特征在于：

上述照射条件中包含上述位相差板的旋转角度、上述光阑的开口位置、开 口面积中的至少一项。

5.一种半导体装置的制造方法，其特征在于包括：

在衬底表面形成布图的步骤，

使用权利要求2或3记载的检查方法对上述布图进行检查的步骤。

6.一种半导体装置的制造方法，其特征在于：包括

在衬底表面形成布图的步骤，

使用权利要求4记载的检查方法对上述布图进行检查的步骤。