[发明专利]构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法无效
申请号: | 200710112260.8 | 申请日: | 2003-07-18 |
公开(公告)号: | CN101086616A | 公开(公告)日: | 2007-12-12 |
发明(设计)人: | 山田修嗣;蜂巢高弘;目黒忠靖 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;H01J9/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法。在基板上具备图形化构件的构件图形的制造方法,包括:使施加到基板上的负性感光材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序;从与上述第一曝光方向的相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序;在上述曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序;以及对上述前体图形进行焙烧的工序。 | ||
搜索关键词: | 构件 图形 结构 以及 图像 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种构件图形的制造方法,该构件图形在基板上具备图形化构件,其特征在于包括:使施加到基板上的负型感光性材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序;在上述第一曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序;使上述构件的前体图形从与上述第一方向相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序;以及在上述第二曝光工序之后对上述前体图形进行焙烧的工序,其中,施加上述负型感光性材料,使其在预先配置于上述基板上的构件和上述基板上方延伸并且覆盖上述构件,并且其中,上述曝光工序包括使上述基板上和上述构件上的上述所要求区域曝光,从而在上述第二曝光工序后形成覆盖预先配置于上述基板上的上述构件的上述前体图形。
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