[发明专利]清洗设备和清洗方法无效
申请号: | 200710092026.3 | 申请日: | 2007-04-04 |
公开(公告)号: | CN101049597A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 山本洋和;桥亚纪子;山本芳男;太田胜启 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;B08B3/12;B08B3/10;H01L21/304;H01L21/00;H01L21/30;H01L21/306;H01L21/67 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李涛;钟强 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 在清洗设备中,当湍流发生在清洗液体的流动中时,曾经与要清洗的物体分离的污染物再次沉积到该要清洗的物体上。在清洗箱2中在给定方向上利用泵4使清洗液体流动。两块矫直板20布置在清洗箱2的上游侧,并且矫直板22布置在待清洗物体的下游侧。多个孔径布置在各个矫直板的平面中。对于孔径比率也就是在矫直板中的孔径面积的比例,矫直板20的孔径比率设置得大于矫直板22的孔径比率。此外,矫直板20b的孔径比率设置为10%或更大和25%或更小的值,并且矫直板22的孔径比率设置为2.5%或更大和10%或更小的值。借助于这个,夹在矫直板20b与矫直板22之间的清洗室28中的液体的流动可形成伪层流。与要清洗的物体分离的污染物迅速移动到排出腔室26,并且由过滤器6除去。 | ||
搜索关键词: | 清洗 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种清洗设备,包括:清洗箱,它存储在给定方向上流动的清洗液体,并且具有当浸在清洗液体中时被清洗的这样的物体;多块上游矫直板,它们在放置要清洗的物体的位置的上游侧彼此相对地排列,并且在它们之间具有间隔,并且其每一块具有多个上游通过孔径,该多个上游通过孔径排列在其平面中,用于通过清洗液体;及下游矫直板,它排列在放置要清洗地物体的位置的下游侧,并且具有排列在其平面中的多个下游通过孔径,用于通过清洗液体,以及其特征在于,上游孔径比率大于下游孔径比率,其中该上游孔径比率是在上游矫直板中的上游通过孔径的面积比例,而下游孔径比率是在下游矫直板中的下游通过孔径的面积比例,所述上游孔径比率设置为10%或更大和25%或更小的值,下游孔径比率设置为2.5%或更大和10%或更小的值。
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