[发明专利]清洗设备和清洗方法

权利要求书

1.一种清洗设备，包括：

清洗箱，它存储在给定方向上流动的清洗液体，并且具有当浸在清洗液体中时被清洗的这样的物体；

多块上游矫直板，它们在放置要清洗的物体的位置的上游侧彼此相对地排列，并且在它们之间具有间隔，并且其每一块具有多个上游通过孔径，该多个上游通过孔径排列在其平面中，用于通过清洗液体；及

下游矫直板，它排列在放置要清洗的物体的位置的下游侧，并且具有排列在其平面中的多个下游通过孔径，用于通过清洗液体，以及

其特征在于，上游孔径比率大于下游孔径比率，其中该上游孔径比率是在上游矫直板中的上游通过孔径的面积比例，而下游孔径比率是在下游矫直板中的下游通过孔径的面积比例，所述上游孔径比率设置为10％或更大和25％或更小的值，下游孔径比率设置为2.5％或更大和10％或更小的值。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，彼此相邻的两块上游矫直板的上游矫直板之一的上游通过孔径和另一块上游矫直板的上游通过孔径排列在彼此偏移的位置。

3.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，根据清洗液体的动力粘度系数，来设置所述上游孔径比率和下游孔径比率。

4.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述上游矫直板和下游矫直板分别由对于清洗液体具有耐腐蚀性的不锈钢形成。

5.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于：在清洗箱中清洗液体的流动方向是水平方向；并且在下游矫直板的下游侧的清洗液体的液面相对于在下游矫直板的上游侧的清洗液体的液面的落差量不大于与清洗液体相对应的规定值。

6.根据权利要求5所述的清洗设备，其特征在于，清洗液体的液面落差量是30mm或更小。

7.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，要清洗的物体是硬盘装置的磁头组组件。

8.一种用来在给定方向上使清洗液体流动以当要清洗的物体浸在该清洗液体中时清洗该物体的清洗方法，该方法包括步骤：

使清洗液体流过在多块上游矫直板的各个平面中排列的多个上游通过孔径，该上游矫直板排列在清洗液体的液体流的上游侧，并且对于液体流是垂直的；

使清洗液体流过在下游矫直板的平面中排列的多个下游通过孔径，该下游矫直板排列在清洗液体的液体流的下游侧，并且对于液体流是垂直的；及

把要清洗的物体浸在形成上游矫直板与下游矫直板之间的清洗液体的液体流中，

以及其特征在于：多块上游矫直板彼此相对地排列，并且在它们之间具有间隔；以及

上游孔径比率大于下游孔径比率，其中所述上游孔径比率是在上游矫直板中的上游通过孔径的面积比例，而下游孔径比率是在下游矫直板中的下游通过孔径的面积比例，该上游孔径比率设置为10％或更大和25％或更小的值，下游孔径比率设置为2.5％或更大和10％或更小的值。

9.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，彼此相邻的两块上游矫直板的上游矫直板之一的上游通过孔径和另一块上游矫直板的上游通过孔径排列在彼此偏移的位置。

10.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，根据清洗液体的动力粘度系数，来设置所述上游孔径比率和下游孔径比率。

11.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，所述上游矫直板和下游矫直板分别由对于清洗液体具有耐腐蚀性的不锈钢形成。

12.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于：在清洗箱中清洗液体的流动方向是水平方向；并且在下游矫直板的下游侧的清洗液体的液面相对于在下游矫直板的上游侧的清洗液体的液面的落差量不大于与清洗液体相对应的规定值。

13.根据权利要求12所述的清洗方法，其特征在于，清洗液体的液面落差量是30mm或更小。

14.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，要清洗的物体是硬盘装置的磁头组组件。