[发明专利]适用于解决光罩沉积物缺陷的方法与装置

摘要

本发明是有关于一种适用于解决光罩沉积物缺陷的方法与装置，其是将一气体导入一光罩装置中，以使沉积物缺陷藉由气涤清洗方式扩散排出光罩装置外；一金属遮蔽装置将光罩装置围绕容置于其中，用以减少对光罩上的沉积物缺陷以及光罩的损害；在一实施例中，金属遮蔽装置包含有一上方金属遮蔽体、光罩装置的一护膜结构、该光罩装置的复数侧支撑架、一上盖、一把手以及一把手盖体。本发明结合使用气涤清洁与金属遮蔽帮助解决沉积物缺陷问题及静电放电的损害，将不洁物的成长与沉积降至最低以解决沉积物缺陷问题，而可减少光罩在清洗后，光罩重复使用缺陷、光罩清洁频率以及光罩尺寸损耗等。此外，由于同一组光罩能制造更多晶圆而可提升光罩生产力，减少重工制造光罩。

主权项

1、一种减少光罩中缺陷的方法，其中，光罩是设置于一光罩装置中，其特征在于该方法至少包含以下步骤：将一气体扩散至该光罩装置中；利用该气体气涤(purging)清洁，以去除一光罩上的沉积物缺陷；以及提供一金属遮蔽装置，该金属遮蔽将该光罩装置围绕容置于其中，以减少对该光罩的沉积物缺陷。