[发明专利]适用于解决光罩沉积物缺陷的方法与装置

权利要求书

1.一种减少光罩中缺陷的方法，其中，光罩是设置于一光罩装置中，其特征在于该方法至少包含以下步骤：

将一气体扩散至该光罩装置中；

利用该气体气涤清洁，以去除一光罩上的沉积物缺陷；以及

提供一金属遮蔽装置，该金属遮蔽装置将该光罩装置围绕容置于其中，以减少对该光罩的沉积物缺陷，

其中利用该气体气涤清洁去除一光罩上的沉积物缺陷的步骤包含：

将该气体经由一气体入口扩散至该光罩装置中；以及

将该沉积物缺陷经由一气体出口扩散排出该光罩装置中，其中该金属遮蔽装置也包含一气体入口以及一气体出口。

2.根据权利要求1所述的减少光罩中缺陷的方法，其特征在于其中所述的光罩装置包含：

一光罩基板；

一光罩图案，其是附着于该光罩基板的其中一侧面；

一护膜结构，其是遮盖住该光罩图案；以及

复数侧支撑架，该些侧支撑架是设置于该光罩基板的周缘位置，并藉由框架粘着剂固定。

3.根据权利要求1所述的减少光罩中缺陷的方法，其特征在于其中所述的气体包含有氮气、氧气以及氩气三者至少其中之一。

4.根据权利要求2所述的减少光罩中缺陷的方法，其特征在于其中所述的金属遮蔽装置包含：一上方金属遮蔽体、该光罩装置的该护膜结构、该光罩装置的该些侧支撑架、一上盖将该上方金属遮蔽体与该光罩装置围绕容置于其中，以及一把手装置设置于该上盖上，且该把手装置更包含一把手以及一把手盖体。

5.根据权利要求4所述的减少光罩中缺陷的方法，其特征在于其中所述的上方金属遮蔽体、该光罩装置的该护膜结构、该光罩装置的该些侧支撑架、该上盖、该把手以及该把手盖体是由合金或不锈钢两者至少其中之一制成。

6.一种光罩装置，其特征在于其包含：

一光罩，该光罩是设置于该光罩装置；

至少一气体入口，以供将一气体扩散至该光罩装置中并流向该光罩；

至少一气体出口，以经由被扩散导入光罩装置内部的该气体，使该光罩装置中的沉积物缺陷，可由该光罩装置中被扩散排出以及 

一金属遮蔽装置，也包含一气体入口以及一气体出口，该金属遮蔽装置是围绕该光罩装置于其中，用以减少光罩上的沉积物缺陷以及光罩的损害。

7.根据权利要求6所述的光罩装置，其特征在于其中：

该光罩，包含一光罩基板，以及一光罩图案，该光罩图案是附着于该光罩基板的至少其中一侧面；以及

该光罩装置，其更进一步包含：

一护膜结构，遮盖住该光罩图案；及

复数侧支撑架，设置于该光罩基板的周缘位置，并藉由框架粘着剂固定。

8.根据权利要求7所述的光罩装置，其特征在于其中所述的金属遮蔽装置包含：一上方金属遮蔽体、该光罩装置的护膜结构以及该光罩装置的侧支撑架。

9.根据权利要求8所述的光罩装置，其特征在于其中所述的金属遮蔽装置更包含一上盖，该上盖是将该上方金属遮蔽体与该光罩装置围绕容置于其中。

10.根据权利要求8所述的光罩装置，其特征在于其中所述的金属遮蔽装置更包含有一上盖，该金属遮蔽装置更包含一把手装置，该把手装置是设置于该上盖上，并包含一把手以及一把手盖体；

其中，该上方金属遮蔽体、该光罩装置的护膜结构、该光罩装置的侧支撑架、该上盖、该把手以及该把手盖体是由合金或不锈钢两者至少其中之一制成。

11.一种使用于微影制程的光罩传送盒，其特征在于该光罩传送盒包含：

一光罩装置，其包含有一图案化光罩以及一腔室，该腔室围绕容置该图案化光罩的一侧表面，并包含一气体入口，以将一气体扩散至该光罩装置中，以及一气体出口，以经由被扩散导入该光罩装置中的该气体，使该光罩装置中的沉积物缺陷，可由该光罩装置中被扩散排出；以及

一金属遮蔽装置，也包含一气体入口以及一气体出口，该金属遮蔽装置是围绕该光罩装置于其中；

其中，该金属遮蔽装置包含一上方金属遮蔽体，该上方金属遮蔽体围绕该光罩装置的至少一部分，以供减少于该光罩装置中的静电放电影响。