[发明专利]在比超导温度Tc高的温度下操作超导体的方法无效
申请号: | 200680041294.6 | 申请日: | 2006-12-26 |
公开(公告)号: | CN101317279A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 苏珊娜·柯拉托洛;王介惠 | 申请(专利权)人: | CZT股份有限公司 |
主分类号: | H01L39/24 | 分类号: | H01L39/24 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 美国堪*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种在Tc*到Tc的范围的温度Tc(i)、在其超导态操作超导体的方法,其中Tc*大于所述超导体的超导温度Tc,所述方法包含:冷却所述超导体到温度Tc以下;在超导体已经进入超导态后施加能量到所述超导体。所述能量对应于量子能量hv,其在小于E0的最小能量到小于E0的范围,其中E0为所述超导体的两维激励结合能基态。然后冷却所述超导体到所选择的温度Tc(i)。所述最小能量为E0的8/9。 | ||
搜索关键词: | 超导 温度 sub 操作 超导体 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在Tc*到Tc的范围的温度Tc(i)、在其超导态操作超导体的方法,其中Tc*大于所述超导体的超导温度Tc,所述方法包含:冷却所述超导体到温度Tc以下;在超导体已经进入超导态后施加能量到所述超导体,所述能量对应于量子能量hv,其在小于E0的最小能量到小于E0的范围,其中E0为所述超导体的两维激励结合能基态;以及冷却所述超导体到所选择的温度Tc(i)。
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