[发明专利]在比超导温度Tc高的温度下操作超导体的方法无效

专利信息
申请号: 200680041294.6 申请日: 2006-12-26
公开(公告)号: CN101317279A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 苏珊娜·柯拉托洛;王介惠 申请(专利权)人: CZT股份有限公司
主分类号: H01L39/24 分类号: H01L39/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 美国堪*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 超导 温度 sub 操作 超导体 方法
【说明书】:

背景和公开内容

本公开广泛地涉及超导体,更具体地涉及调整超导体的超导温度Tc到高于Tc的温度的方法和装置。

在从Tc*到Tc的范围的温度Tc(i)(其中,Tc*大于超导体的超导温度Tc),操作处于其超导态的超导体的方法包括:在所述超导体进入到超导态后,冷却所述超导体到温度Tc以下,并对所述超导体施加能量。所述能量对应于量子能量hv,其在小于E0的最小能量到小于E0的范围,其中E0为所述超导体的两维激励结合能的基态。接着冷却所述超导体到选择的温度Tc(i)。所述最小能量为E0的8/9。

由光源施加所述能量,所述光源可以为脉冲。所述超导体在温度Tc或更低的温度下冷却,直到所述超导体的温度降低到低于所述冷却温度。所述超导体在温度Tc或更低的温度下冷却,直到产生了足够数量的稳定全局局域化激子来维持超导态。

在所述冷却温度升高到Tc之上之前、或在所述冷却温度升高到Tc之上并且在失去超导态之前,可以施加所述能量。所述能量E0是空穴密度的分数(the fraction of hole density)n的函数,其中空穴密度的分数n随着超导材料变化而变化。

当结合附图考虑时,从本公开的以下的详细描述,本公开的这些和其它方面将变得更加明显。

附图说明

图1为低于超导温度Tc时单位晶胞晶格的透视图;

图2为在双极转变过程中Tc接近Tc*时单位晶胞晶格的透视图;

图3为对于低于Tc的超导体,导带中空穴和价带中电子的电流密度的BG图;

图4为处于Tc的超导体的BG图;

图5为处于高于Tc温度的超导体的BG图;

图6为YBa2Cu3O7在Tc和Tc*时电阻对于温度的曲线图;

图7为第一个实验使用的装置;

图8为YBCO的第三个实验的磁化率对于温度的曲线图;

图9为第六个实验的缺氧YBCO的电压对于温度的曲线图。

优选实施例的详细描述

自从发现高温铜酸盐超导体以来[2],已经发现所述超导Tc值与其晶体结构中CuO2层数相关联,最大可以达到3层。除了这一特征之外,Tc还根据空穴载流子密度以反抛物线形式变化。除了Tc,激子增强机制(EEM,Excitonic Enhancement Mechanism,激子增强机制)模型也可以预测在正常和超导相中的其它新特性,如在混合态量子霍耳效应中观察到的符号改变[3]和热力电子动力(thermal electric power)[4]。

所述EEM理论本质上基于来自位于CuO2层上的氧离子的本征部分填充的“p”价带VB和Ba/Sr离子的空“s”导带CB之间的双极带间交互所用。因为这种带间交互作用,产生了本征电子带结构的显著重正化,并且在带隙G中引入了激子能级。事实上,带隙中激子能级在CuO2晶体中也产生[5]。

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