[发明专利]利用多次曝光印刷光刻图像的方法和系统有效
| 申请号： | 200680025643.5 | 申请日： | 2006-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN101223527A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | J·赫卡贝 | 申请（专利权）人： | 凯迪斯设计系统公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种用于把将被印刷的设计分为两次或多次曝光的系统和方法，其中每一次所述曝光至少具有最小间距。这些多次曝光一起印刷出无法仅用一次曝光而印刷的设计。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 多次 曝光 印刷 光刻 图像 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种使用光刻制造设备来印刷用于IC产品的图像的方法，该方法包括：识别一个或多个关键特征，所述一个或多个关键特征对应于所述IC产品上的由于间距尺寸问题而无法在所述光刻制造设备的单次曝光中被印刷的一个或多个特征；识别一个或多个非关键特征，所述一个或多个非关键特征对应于所述IC产品上的可以在所述光刻制造设备的单次曝光中被印刷的一个或多个特征；如果需要则分割所述一个或多个非关键特征中的任何一个；以及产生用于使用第一次曝光来制造所述一个或多个关键特征中的第一组以及使用第二次曝光来制造所述一个或多个关键特征中的第二组的数据。
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