[发明专利]对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法有效
| 申请号： | 200680021755.3 | 申请日： | 2006-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101199026A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | H－O·博斯奥特;T·C·玛希尔;F·施特勒默尔 | 申请（专利权）人： | 阿利发NP有限公司 |
| 主分类号： | G21F9/00 | 分类号： | G21F9/00;G21F9/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法，其中使用气态的氧化剂处理氧化层。 | ||
| 搜索关键词： | 核技术 设施 部件 系统 氧化 表面 去污 方法 | ||
【主权项】：
1.对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法，其中使用气态的氧化剂处理氧化层。
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