[发明专利]对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法

权利要求书

1.对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法，其中使用气态的氧化剂处理氧化层。

2.根据权利要求1的方法，其特征在于，在处理期间在氧化层上保持一层水膜并使用一种水溶性的氧化剂。

3.根据权利要求2的方法，其特征在于，使用水蒸气产生水膜。

4.根据前述权利要求任一项的方法，其特征在于，对所述表面或其上面存在的氧化层输送热量。

5.根据权利要求4的方法，其特征在于，通过热蒸气或热空气输送热量。

6.根据权利要求4的方法，其特征在于，通过外部加热装置输送热量。

7.根据前述权利要求任一项的方法，其特征在于，使用臭氧作为氧化剂。

8.根据权利要求7的方法，其特征在于，在所述表面上产生酸性水膜。

9.根据权利要求8的方法，其特征在于，水膜的pH值为≤2。

10.根据权利要求8或9的方法，其特征在于，水膜与气态的酸酐进行接触。

11.根据权利要求1O的方法，其特征在于，使用一种氮氧化物。

12.根据权利要求11的方法，其特征在于，在处理期间保持至少0.1g/Nm³的NO_x浓度。

13.根据权利要求12的方法，其特征在于，NO_x浓度为0.2-0.5g/Nm³。

14.根据权利要求7-13任一项的方法，其特征在于，将待处理的表面加热到30-80℃的温度。

15.根据权利要求14的方法，其特征在于，温度为60-70℃。

16.根据权利要求7-15任一项的方法，其特征在于，在处理期间保持至少5g/Nm³的臭氧浓度。

17.根据权利要求16的方法，其特征在于，臭氧浓度为100-120g/Nm³。

18.根据权利要求1-6任一项的方法，其特征在于，使用一种氮氧化物(NO_x)作为氧化剂。

19.根据权利要求18的方法，其特征在于，待处理的表面加热到至少80℃的温度。

20.根据权利要求19的方法，其特征在于，温度为110-180℃。

21.根据权利要求18-20任一项的方法，其特征在于，在处理期间NO_x浓度保持为至少1g/Nm³。

22.根据权利要求21的方法，其特征在于，NO_x浓度为10-50g/Nm³。

23.根据前述权利要求任一项的方法，其特征在于，在氧化处理之后处理过的表面用水蒸气处理，其中在表面上进行水蒸气的冷凝。

24.根据权利要求23的方法，其特征在于，水蒸气的温度大于100℃。

25.根据权利要求24的方法，其特征在于，将过量的水蒸气冷凝。

26.根据权利要求24或25的方法，其特征在于，将冷凝物输送通过阳离子交换器。

27.根据权利要求24、25或26的方法，其特征在于，将冷凝物用还原剂处理以除去其中含有的硝酸盐。

28.根据权利要求27的方法，其特征在于，使用肼作为还原剂。

29.根据权利要求28的方法，其特征在于，硝酸盐与肼的摩尔比为至少1∶0.5。

30.根据权利要求2 9的方法，其特征在于，硝酸盐与肼的摩尔比为1∶0.5-2∶5。

31.根据前述权利要求任一项的方法，其特征在于，在氧化处理之后氧化层用有机酸的水溶液处理。

32.根据权利要求31的方法，其特征在于，使用草酸。