[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备、及用于生产电子照相感光构件的方法有效
| 申请号： | 200680004663.4 | 申请日： | 2006-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN101120287A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 中村一成;平野秀敏;上杉浩敏;云井郭文;高木进司;阿部幸裕;久野纯平;三浦大祐 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/10 | 分类号： | G03G5/10;G03G5/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在具有支承体、形成在该支承体上的导电层、形成在该导电层上的中间层和形成在该中间层上的感光层的电子照相感光构件中，已经通过使用含有具有平均粒径0.20μm以上至0.60μm以下的用氧缺乏型SnO2涂布的TiO2颗粒的导电层用涂布液形成导电层，且该导电层具有体积电阻率为大于8.0×108Ωcm至1.0×1011Ωcm以下。该电子照相感光构件可以防止带电线条出现。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 用于 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成在该支承体上的导电层、形成在该导电层上的中间层和形成在该中间层上的感光层，其中；所述导电层是通过使用含有具有平均粒径为0.20μm以上至0.60μm以下的用氧缺乏型SnO2涂布的TiO2颗粒的导电层用涂布液形成的层；且所述导电层具有体积电阻率为大于8.0×108Ωcm至1.0×1011Ωcm以下。
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