[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备、及用于生产电子照相感光构件的方法

说明书

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件、具有该电子照相感光构件的处理盒及电子照相设备，本发明还涉及用于生产电子照相感光构件的方法。

背景技术

近年，关于使用有机光导电性材料的电子照相感光构件(即，有机电子照相感光构件)进行了积极的研究和开发。

电子照相感光构件各自基本上由支承体和形成于该支承体上的感光层构成。然而，在现有的环境下，为了例如覆盖支承体表面的缺陷、提高感光层的涂布性能、提高支承体和感光层间的粘合性、保护感光层免受电击穿、提高可充电性及提高阻止电荷从支承体注入到感光层的性能，经常在支承体和感光层间形成各种层。因此，要求欲在支承体和感光层之间形成的层具有许多功能如覆盖性、粘合性、机械强度、导电性、电阻挡性能等。

欲设置在支承体和感光层之间的层传统已知包括以下类型。

(i)不含有导电性材料的树脂层。

(ii)含有导电性材料的树脂层。

(iii)通过在类型(ii)的层上叠加类型(i)的层形成的多层。

类型(i)的层不含有导电性材料，因此该层具有高的电阻率。而且，为了覆盖没有进行过表面平滑处理的支承体表面的缺陷，其必须以大的厚度(层厚度)形成。

然而，如果这种具有高电阻率的类型(i)的层以大的层厚度形成，问题出现如其在起始阶段和反复使用期间产生高的残余电势。

因此，为了使类型(i)的层投入实际使用，必须减少支承体表面的缺陷并以小的层厚度形成该层。

另一方面，类型(ii)的层是其中导电性材料如导电性粒子分散于树脂中的层，可以使该层具有低的电阻率。因此，该层可以以大的层厚度形成以致覆盖导电性支承体或非导电性支承体(如由树脂制成的支承体)表面的缺陷。

然而，当类型(ii)的层以大的层厚度形成时，与以小的厚度形成的类型(i)的层相比，必定赋予该层足够的电导性，因此，类型(ii)的层导致具有低体积电阻率的层。因此，为了阻止其为图像缺陷的原因的电荷从支承体和类型(ii)的层注入感光层，在从低温和低湿到高温和高湿广泛变化的环境条件下，优选在类型(ii)的层和感光层之间额外设置具有电阻挡性(electrical barrier properties)的层。这种具有电阻挡性的层是不含有导电性材料的树脂层，如类型(i)的层。

即，欲设置在支承体和感光层之间的层可以优选具有其中类型(i)的层和类型(ii)的层顺次叠置的类型(iii)的构造。

类型(iii)的构造要求多层的形成，因此要求相应地更大数目的步骤。然而，其具有对支承体表面上的缺陷的耐受力可以范围更宽的优点，因此，对支承体使用的耐受力可以具有很宽的范围，从而保证获得生产率的提高。

通常，类型(ii)的层称为导电层，类型(i)的层称为中间层(底层或阻挡层)。

通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的铝管及通过具有挤出步骤和减薄拉伸步骤的生产方法生产的铝管用作用于电子照相感光构件的支承体，其能够获得作为不需要表面切割的非切割管的良好的空间精确性和表面光洁度，除此之外，考虑到成本也是有利的。然而，毛刺状突起缺陷趋于出现在这些铝非切割管的表面。因此，从覆盖这种支承体的表面缺陷的观点出发，类型(iii)的构成也是优选的。

作为用于导电层的导电性材料，其包括各种金属、金属氧化物和导电性聚合物。特别地，由于具有优良的电阻率特性，具有粉体电阻率通常在10⁴至10⁶Ωcm范围内的氧化锡(下文也为“SnO₂”)是优选的。当生产SnO₂导电性材料时，也可获得通过混合(或掺杂)具有不同于锡的化合价的金属的化合物如氧化锑或非金属元素将粉体电阻率降低到1/1000至1/100000的导电性材料。不添加组成元素且在非掺杂状态的情况下，也可获得其中已经使SnO₂的电阻率与锑掺杂的材料的电阻率一样低的氧缺乏型的SnO₂导电性材料。