[发明专利]防反射硬膜薄膜、光学元件和图像显示装置有效
申请号: | 200680003672.1 | 申请日: | 2006-01-13 |
公开(公告)号: | CN101111784A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 高田胜则;重松崇之 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/10;B32B27/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种防反射硬膜薄膜,其是在透明塑料薄膜基材的至少一个面依次分别形成至少一层作为固化涂膜层的硬膜层、防反射层的防反射硬膜薄膜,在形成硬膜层和防反射层直接接触的界面的层中,硬膜层形成材料含有:具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、相对于固化性化合物(A)100重量份为0.01~3重量份的具有(甲基)丙烯酸酯基的反应性硅酮(B),而且所述防反射层形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。这种防反射硬膜薄膜中的硬膜层与防反射层的粘附性良好,具有高硬度且不影响防反射特性的良好、且具有耐擦伤性。 | ||
搜索关键词: | 反射 薄膜 光学 元件 图像 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种防反射硬膜薄膜,其是在透明塑料薄膜基材的至少一面依次分别形成有至少一层作为固化涂膜层的硬膜层、防反射层的防反射硬膜薄膜,其特征在于,在形成硬膜层和防反射层直接接触的界面的层中,硬膜层形成材料含有具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、相对于固化性化合物(A)100重量份为0.01~3重量份的具有(甲基)丙烯酸酯基的反应性硅酮(B),而且所述防反射层形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680003672.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。