[发明专利]存储器晶胞、集成电路有效
| 申请号: | 200610169066.9 | 申请日: | 2006-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN101106134A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
| 发明(设计)人: | 徐德训;林咏涛;林春荣;叶壮格 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/02 |
| 代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈晨 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明提供一种非易失性存储器晶胞及其制造方法。非易失性存储器晶胞包括:浮动栅,其位于半导体基底上方;第一电容,其包括第一电极板、浮动栅和电介质,电介质位于第一电极板和浮动栅之间;第二电容,其包括第二电极板、浮动栅和电介质,电介质位于第二电极板和浮动栅之间;第三电容,其包括第三电极板和第四电极板,其中第三电极板和第四电极板分别形成于半导体基底上的不同的金属层中;第一电容的第一电极板包括位于半导体基底中的第一掺杂区和第二掺杂区。非易失性存储器晶胞还包括晶体管,其包括位于半导体基底上方的栅电极,其中晶体管的源/漏极区连接至晶体管的第一掺杂区。 | ||
| 搜索关键词: | 存储器 晶胞 集成电路 | ||
【主权项】:
1.一种存储器晶胞,其特征在于,包括:半导体基底;浮动栅,其位于上述半导体基底上方;第一电容,其包括第一电极板、上述浮动栅和电介质,上述电介质位于上述第一电极板和上述浮动栅之间,上述第一电极板包括第一掺杂区和第二掺杂区,上述第一掺杂区和上述第二掺杂区位于上述半导体基底中;第二电容,其包括第二电极板、上述浮动栅和电介质,上述电介质位于上述第二电极板和上述浮动栅之间;第三电容,其包括第三电极板和第四电极板,上述第三电极板和上述第四电极板分别形成于上述半导体基底上的不同的金属层中,并且上述第三电容与上述浮动栅电连接;以及晶体管,其包括:栅极,其位于上述半导体基底上方;第一源/漏极区和第二源/漏极区,其大体上对准于上述栅极的两相对侧壁,上述第二源/漏极区连接至上述第一电容的上述第一掺杂区。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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