[发明专利]半导体装置的植球制程及其使用的助焊剂沾印治具无效
申请号: | 200610160861.1 | 申请日: | 2006-11-30 |
公开(公告)号: | CN101192552A | 公开(公告)日: | 2008-06-04 |
发明(设计)人: | 陈建宏 | 申请(专利权)人: | 力成科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/28 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是有关于一种半导体装置的植球制程及其使用的助焊剂沾印治具。该半导体装置的植球制程,包括:首先提供一助焊剂沾印治具,其一表面贴附有一软质印模,该软质印模具有复数阵列沾印凸块。接着沾附助焊剂于该些沾印凸块。接着转印该些沾印凸块上助焊剂至一半导体装置。之后设置复数自由焊球于该半导体装置,并以转印的助焊剂沾粘固定。最后回焊该些自由焊球,使其固着在半导体装置上。该助焊剂沾印治具,适用于半导体装置的植球制程,该助焊剂沾印治具一表面贴附一软质印模,且该软质印模具有复数个阵列的沾印凸块。本发明具有无针式沾印助焊剂的功效,可解决习知使用个别沾印针助焊剂的沾印治具引起的针损伤与断裂问题,具有低磨耗、更换容易与低成本优点。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 植球制程 及其 使用 焊剂 沾印治具 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置的植球制程,其特征在于其包括以下步骤:提供一助焊剂沾印治具,其一表面是贴附有一软质印模,且该软质印模是具有复数个阵列的沾印凸块;沾附助焊剂于该些沾印凸块;转印该些沾印凸块上的助焊剂至一半导体装置;设置复数个自由焊球于该半导体装置,并以转印的助焊剂沾粘固定;以及回焊该些自由焊球,使其固着在该半导体装置上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力成科技股份有限公司,未经力成科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610160861.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:脚踏式阀门
- 下一篇:热回收焦炉移动罩式机侧除尘工艺
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造