[发明专利]半导体装置的植球制程及其使用的助焊剂沾印治具无效
申请号: | 200610160861.1 | 申请日: | 2006-11-30 |
公开(公告)号: | CN101192552A | 公开(公告)日: | 2008-06-04 |
发明(设计)人: | 陈建宏 | 申请(专利权)人: | 力成科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/28 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 植球制程 及其 使用 焊剂 沾印治具 | ||
1.一种半导体装置的植球制程,其特征在于其包括以下步骤:
提供一助焊剂沾印治具,其一表面是贴附有一软质印模,且该软质印模是具有复数个阵列的沾印凸块;
沾附助焊剂于该些沾印凸块;
转印该些沾印凸块上的助焊剂至一半导体装置;
设置复数个自由焊球于该半导体装置,并以转印的助焊剂沾粘固定;以及
回焊该些自由焊球,使其固着在该半导体装置上。
2.根据权利要求1所述的半导体装置的植球制程,其特征在于其中所述的软质印模是为橡胶材质。
3.根据权利要求1所述的半导体装置的植球制程,其特征在于其中所述的半导体装置是具有复数个球垫,其位置是与该些沾印凸块相对应。
4.根据权利要求1所述的半导体装置的植球制程,其特征在于其中所述的半导体装置是选自于一半导体封装件、一半导体晶圆与一半导体晶片的其中之一。
5.一种助焊剂沾印治具,其是适用于半导体装置的植球制程,其特征在于该助焊剂沾印治具的一表面是贴附有一软质印模,且该软质印模是具有复数个阵列的沾印凸块。
6.根据权利要求5所述的助焊剂沾印治具,其特征在于其中所述的软质印模是为橡胶材质。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造