[发明专利]用以监测图案尺寸的方法与系统有效
| 申请号: | 200610140407.X | 申请日: | 2006-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN1945440A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
| 发明(设计)人: | 张世明;夏振原;王文娟;吕启纶;黄彦彬;洪彰成;陈嘉仁;刘介中;李信昌;谢弘璋 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明是有关于一种用以监测图案尺寸的系统与方法,其是用于具有一透明层以及一非透明图案的物件,该透明层是裸露于该图案,该非透明图案是与该透明层层压。根据此方法,其是将一第一光束投射于该图案上。侦测一第二光束,该第二光束是该第一光束通过裸露于该图案的该透明层所产生,或是该第一光束由该图案的非透明层反射所产生。由测得的第二光束获得一预先设定属性的值。监测该值的变化,用以鉴别该图案的尺寸。此系统与方法是以替代的方案,借由计算在一监测区域内透射能量与反射能量的比例,来收集关于尺寸与相位的资讯。由于这些方案经久耐用且易于整合在一蚀刻室内,因此可以在一蚀刻制程中提供同步量测。 | ||
| 搜索关键词: | 用以 监测 图案 尺寸 方法 系统 | ||
【主权项】:
1、一种用以监测图案尺寸的方法,该方法是用于具有一透明层以及一非透明图案的物件,该透明层是裸露于该图案,该非透明图案是层压于该透明层上,其特征在于其包含以下步骤:投射一第一光束于该图案上;侦测一第二光束,该第二光束是该第一光束通过裸露于该图案的该透明层所产生,或是该第一光束由该图案的非透明层反射所产生;由测得的第二光束获得一预先设定属性的值;监测该值的变化,用以鉴别该图案的尺寸。
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