[发明专利]一种高选择性生产液体烃的费托合成方法有效
| 申请号： | 200610114576.6 | 申请日： | 2006-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN101186835A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 胡志海;吴昊;李毅;聂红;田鹏程;侯朝鹏;夏国富 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院 |
| 主分类号： | C10G5/00 | 分类号： | C10G5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 徐舒;庞立志 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种高选择性生产液体烃的费托合成方法，包括在费托合成反应条件下，将含氢和一氧化碳的混合气与催化剂接触，其特征在于，所述催化剂含有有效量的钴金属组分和氧化铝，其中，所述钴金属组分的RT值为400℃至1000℃；所述RT值为采用程序升温还原(TPR)对催化剂进行表征时，以氧化态形式存在的钴的还原谱图中第一还原谱峰对应的峰顶温度。与现有技术相比，本发明提供方法的C5+选择性得到明显提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 选择性 生产 液体 合成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高选择性生产液体烃的费托合成方法，包括在费托合成反应条件下，将含氢和一氧化碳的混合气与催化剂接触，其特征在于，所述催化剂含有有效量的钴金属组分和氧化铝，其中，所述钴金属组分的RT值为400℃至1000℃；所述RT值为采用程序升温还原方法对催化剂进行表征时，以氧化态形式存在的钴的还原谱图中第一还原谱峰对应的峰顶温度。
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