[发明专利]等离子体溅射靶材装置及其制造方法无效
申请号: | 200610109358.3 | 申请日: | 2006-08-10 |
公开(公告)号: | CN101122008A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 钟享显;曹文光;许泓译;陈建裕 | 申请(专利权)人: | 中华映管股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B32B5/16;C23C14/06;B32B37/04 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁挥;徐金国 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种等离子体溅射靶材装置及其制造方法,包含:靶材;粘着层,粘着层具有多数颗粒(partical),且粘着层具有第一侧与第二侧,第一侧与靶材粘着;以及背板,背板与粘着层的第二侧粘着。此颗粒在背板加热过程时形成,或在背板上形成多数突起物且粘着层的高度大于等于这些突起物的高度,因粘着层具有颗粒不同于靶材的组成材质且溅击率与靶材不同,靶材击穿时因颗粒或突起物暴露于等离子体下引发异常放电现象,借此检测此现象并实时切断电源,避免背板击穿。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 溅射 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体溅射靶材装置,其特征在于,包含:一靶材;一粘着层,该粘着层具有多数颗粒,且该粘着层具有一第一侧与一第二侧,该第一侧与该靶材粘着;以及一背板,该背板与该粘着层的该第二侧粘着。
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