[发明专利]等离子体溅射靶材装置及其制造方法

权利要求书

1.一种等离子体溅射靶材装置，其特征在于，包含：

一靶材；

一粘着层，该粘着层具有多数颗粒，且该粘着层具有一第一侧与一第二侧，该第一侧与该靶材粘着；以及

一背板，该背板与该粘着层的该第二侧粘着。

2.根据权利要求1所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该靶材的材质是选自含氧化铟锡、铜、铁、钴、硅、钛、锆、铌、钼、钌、铑、钯、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铬、锰、锗、铂、银、铟、金及其组合的其中之一。

3.根据权利要求1所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该粘着层为一种熔度低于靶材的材质。

4.根据权利要求1所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些颗粒与靶材所使用的材质不同。

5.根据权利要求1所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些颗粒选自氧化铟锡、铜、铁、钴、硅、钛、锆、铌、钼、钌、铑、钯、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铬、锰、锗、铂、银、铟、金及其组合的其中之一。

6.一种等离子体溅射靶材装置，其特征在于，包含：

一靶材；

一粘着层，该粘着层具有一第一侧与一第二侧，该第一侧与该靶材粘着；以及

一背板，该背板具有多数突起物，且该背板与该粘着层的第二侧粘着。

7.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该粘着层进一步含有颗粒。

8.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该靶材的材质是选自含氧化铟锡、铜、铁、钴、硅、钛、锆、铌、钼、钌、铑、钯、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铬、锰、锗、铂、银、铟、金及其组合的其中之一。

9.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该粘着层为一种熔度低于靶材的材质。

10.根据权利要求7所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些颗粒与该靶材所使用的材质不同。

11.根据权利要求7所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该颗粒选自氧化铟锡、铜、铁、钴、硅、钛、锆、铌、钼、钌、铑、钯、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铬、锰、锗、铂、银、铟、金及其组合的其中之一。

12.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些突起物与该背板为同一材质。

13.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些突起物的形状为锥状形体。

14.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些突起物与该背板为一体成形。

15.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些突起物与该背板及该靶材为不同材质。

16.根据权利要求6所述的等离子体溅射靶材装置，其特征在于，该些突起物之材质选自氧化铟锡、铜、铁、钴、硅、钛、锆、铌、钼、钌、铑、钯、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铬、锰、锗、铂、银、铟、金及其组合的其中之一。

17.一种等离子体溅射靶材装置的制造方法，其特征在于，包含下列步骤：

提供一靶材；

提供一粘着层，该粘着层具有多数颗粒，且该粘着层具有一第一侧与一第二侧，该粘着层的该第一侧与该靶材粘合；

提供一背板，该背板上形成多数突起物且该粘着层的高度大于等于该些突起物的高度；以及

粘合该背板与该粘着层的该第二侧。

18.根据权利要求17所述的制造方法，其特征在于，该靶材的材质是选自含氧化铟锡、铜、铁、钴、硅、钛、锆、铌、钼、钌、铑、钯、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铬、锰、锗、铂、银、铟、金及其组合的其中之一。

19.根据权利要求17所述的制造方法，其特征在于，该粘着层为一种熔度低于靶材的材质。

20.根据权利要求17所述的制造方法，其特征在于，该些颗粒与该靶材所使用的材质不同。