[实用新型]永磁式平面磁控溅射靶无效
| 申请号： | 01255955.5 | 申请日： | 2001-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN2501888Y | 公开（公告）日： | 2002-07-24 |
| 发明（设计）人： | 张兴全;李守义 | 申请（专利权）人： | 深圳市福义乐磁性材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市中知专利代理有限公司 | 代理人： | 王雄杰 |
| 地址： | 518057 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 永磁式平面磁控溅射靶,包括永磁体,在永磁体的上端面装有导磁极帽,导磁极帽的横截面形状可以为矩形、梯形、楔形、三角形、锥形、半圆形或其它形状,在永磁体的下端面装有导磁调整垫,导磁调整垫固定在极靴上,极靴通过升降调节螺杆支撑在磁控靶体上,外圈永磁体的外侧面上封装有短路磁极。本实用新型提供了一种能使空间磁场均匀,提高镀膜质量,靶材利用率可达60%,磁性调整范围大,能消除杂散磁场,在非使用区不产生电弧的永磁式平面磁控溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 永磁 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
1、永磁式平面磁控溅射靶，包括永磁体，其特征在于：在永磁体的上端面装有导磁极帽。
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