[实用新型]永磁式平面磁控溅射靶无效
| 申请号: | 01255955.5 | 申请日: | 2001-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN2501888Y | 公开(公告)日: | 2002-07-24 |
| 发明(设计)人: | 张兴全;李守义 | 申请(专利权)人: | 深圳市福义乐磁性材料有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 深圳市中知专利代理有限公司 | 代理人: | 王雄杰 |
| 地址: | 518057 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 永磁 平面 磁控溅射 | ||
1、永磁式平面磁控溅射靶,包括永磁体,其特征在于:在永磁体的上端面装有导磁极帽。
2、根据权利要求1所述永磁式平面磁控溅射靶,其特征在于:永磁体固定在极靴上,极靴通过升降调节螺杆支撑在磁控靶体上。
3、根据权利要求1所述永磁式平面磁控溅射靶,其特征在于:在永磁体的下端面装有导磁调整垫。
4、根据权利要求3所述永磁式平面磁控溅射靶,其特征在于:导磁调整垫固定在极靴上,极靴通过升降调节螺杆支撑在磁控靶体上。
5、根据权利要求1、2、3或4所述永磁式平面磁控溅射靶,其特征在于:永磁体包括外圈永磁体和中间永磁体,外圈永磁体的外侧面上装有短路磁极。
6、根据权利要求1、2、3或4所述永磁式平面磁控溅射靶,其特征在于:导磁极帽的横截面形状为梯形、楔形、三角形、锥形或半圆形。
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