[发明专利]半导体芯片装置及其封装方法无效
申请号: | 01102606.5 | 申请日: | 2001-02-02 |
公开(公告)号: | CN1368758A | 公开(公告)日: | 2002-09-11 |
发明(设计)人: | 陈怡铭 | 申请(专利权)人: | 陈怡铭 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 徐娴 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体芯片装置及其封装方法,本方法的步骤半导体芯片上具有带焊垫的焊垫安装表面,每一焊垫上有一导电触点;在安装表面上形成一感光薄膜层;对薄膜层进行光蚀刻,形成暴露导电触点的暴露孔;以锡膏充填暴露孔;使其形成一导电焊点。本装置包括一半导体芯片,其具有一带焊垫的焊垫安装表面,每一焊垫上形成有一导电触点;一形成在焊垫安装表面上的感光薄膜层,其对应于导电触点处形成有填充锡膏的暴露孔。本装置便于与外部电路电连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 芯片 装置 及其 封装 方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体芯片装置的封装方法,该半导体芯片装置适于安装至一个基板或另一个半导体芯片装置上,该基板或半导体芯片装置具有一个芯片安装区域,该芯片安装区域内设有数个焊点,其特征在于,包括如下步骤:提供一个半导体芯片,该半导体芯片具有一个设有数个焊垫的焊垫安装表面,每一焊垫上形成有一个导电触点;在芯片的焊垫安装表面上形成一个感光薄膜层;在感光薄膜层上置放一个覆盖该感光薄膜层的对应于该等导电触点部分的光掩模,并且对该感光薄膜层进行曝光处理;在移去光掩模之后,以化学冲洗手段把感光薄膜层被光掩模覆盖部分冲洗去除至少一部分,以形成至少把对应的导电触点顶端部分暴露的暴露孔;以锡膏充填每一暴露孔;以红外线加热方式使每一暴露孔的锡膏形成一适于与基板或另一半导体芯片装置的对应焊点电连接的导电焊点。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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