[实用新型]磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机无效
| 申请号： | 00246953.7 | 申请日： | 2000-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN2434311Y | 公开（公告）日： | 2001-06-13 |
| 发明（设计）人： | 夏正勋 | 申请（专利权）人： | 夏正勋 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 甘肃省专利服务中心 | 代理人： | 徐筱梅 |
| 地址： | 730050 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机,它包括一个形状为圆形或方形的单室型真空室;一个设在真空室内的驱动车;一对设在真空室内的放、收卷辊;数对设在真空室内的磁控靶;放卷辊与收卷辊上卷绕有被镀基材,放卷辊与收卷辊间的被镀基材之间设有传动链条或带及多个导辊;在真空室内,被镀基材由放卷辊匀速通过每对靶的中间位置,连续传送到收卷辊上,这些靶溅射的金属材料沉积在基材上,形成附着牢固,厚度均匀的镍或其他金属薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 泡沫 卷绕 镀膜 | ||
【主权项】：
1、一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机，其特征在于它包括：一个形状为圆形或方形的单室型真空室(2)；一个设在真空室(2)内的驱动车(5)；一对设在真空室(2)内的放、收卷辊(3)、(4)；数对设在真空室(2)内的磁控靶(9)。
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