[实用新型]磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机

说明书

本实用新型涉及在柔性基材上连续沉积镍或其他金属薄膜的设备，具体地说是一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机。

目前，国内进行的这一工艺步骤是用化学的方法，称之湿法，它使用设备较多，而且有些设备的使用不利于环境保护，劳动条件也不好。

本实用新型的目的是提供一种采用物理汽相沉积的真空溅射方法来进行在柔性基材上镀金属膜的设备，它镀制的金属膜致密性好，厚度均匀，结合牢固，采用此设备不产生三废，劳动条件好。

实现本实用新型目的的具体技术方案是：磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机包括：一个形状为圆形或方形的单室型真空室；一个设在真空室内的驱动车；一对设在真空室内的放、收卷辊；数对设在真空室内的磁控靶；放卷辊与收卷辊上卷绕有被镀基材泡沫塑料，放卷辊与收卷辊间的泡沫塑料之间设有传动链条或带及多个导辊；磁控靶成对出现，水平或垂直设置，其上靶或内靶安装在驱动车上，下靶或外靶安装在真空室的室体上，磁控靶两侧设有充气管路；磁控靶采用电磁靶或永磁靶。

与现有技术相比，本实用新型有以下优点：

1、在柔性基材上镀制的金属薄膜致密性好，厚度均匀，结合牢固，且不产生污染，劳动条件好。

2、结构简单，磁控靶分别安装在驱动车和真空室体上，靶材的更换和被镀基材的装卸方便。

3、适用于大面积镀膜的工业化生产，靶的安装方式，使被镀基材的外表面和孔内表面的镀膜一次完成。

图1为本实用新型圆形真空室且水平设置磁控靶的结构示意图

图2为本实用新型方形真空室且垂直设置磁控靶的结构示意图

图中：1-传动链条或带2-真空室3-放卷辊4-收卷辊5-驱动车6-泡沫塑料7-导辊8-充气管路9-磁控靶

下面结合附图对本实用新型进行详细描述：

参阅附图，本实用新型中的真空室2可为方形室体，也可为圆形室体，磁控靶9可水平设置，也可垂直设置，靶的溅射和被镀基材的放卷、收卷等是在同一个真空室内进行。磁控靶9分别安装在驱动车5和真空室2室体上，充气管路8设在磁控靶9的两侧且靠近被镀基材，各导辊7用传动链条或带进行同步传动。具体工作过程：在真空室2中，被镀基材一泡沫塑料6从放卷辊3经过多个导辊7和每对磁控靶9的中间位置连续均匀地传送到收卷辊4上，在通过磁控靶9时，磁控靶9的靶材金属镍被充气管路8充入的氩气电离后产生的氩离子溅射出来，沉积在泡沫塑料6上而得到镍金属薄膜，完成溅射镀膜过程。