[发明专利]制备电摄影光敏元件的方法无效
| 申请号： | 00103138.4 | 申请日： | 2000-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1264853A | 公开（公告）日： | 2000-08-30 |
| 发明（设计）人： | 川守田阳一;相马孝夫 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04;G03G5/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备具有一个层的电摄影光敏元件的方法。该方法包括使用一分散体形成该层的步骤,该分散体是通过将加压流体从孔口喷射进入直径大于孔口直径的空心元件中以分散待分散物料而获得的。所述流体以基本上非雾化的状态被喷射。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 摄影 光敏 元件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备具有一个层的电摄影光敏元件的方法；所述方法包括使用一分散体形成该层的步骤，所说的分散体是通过将加压流体从孔口喷射进入直径大于孔口直径的空心元件中以分散待分散物料而获得的；所述流体以基本上非雾化的状态被喷射。
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