[发明专利]制备电摄影光敏元件的方法无效

专利信息
申请号: 00103138.4 申请日: 2000-01-07
公开(公告)号: CN1264853A 公开(公告)日: 2000-08-30
发明(设计)人: 川守田阳一;相马孝夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/04 分类号: G03G15/04;G03G5/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制备 摄影 光敏 元件 方法
【权利要求书】:

1.一种制备具有一个层的电摄影光敏元件的方法;所述方法包括使用一分散体形成该层的步骤,所说的分散体是通过将加压流体从孔口喷射进入直径大于孔口直径的空心元件中以分散待分散物料而获得的;所述流体以基本上非雾化的状态被喷射。

2.根据权利要求1的方法,其中通向所述孔口的通道基本上是直的。

3.根据权利要求1的方法,其中所述孔口的直径为0.01mm-1.0mm。

4.根据权利要求3的方法,其中所述孔口的直径为0.05mm-0.3mm。

5.根据权利要求1的方法,其中所述流体在所述孔口中的速度为40-5000m/sec。

6.根据权利要求5的方法,其中所述流体的速度为200-3000m/sec。

7.根据权利要求1的方法,其中所述空心元件的直径为所述孔口直径的2-100倍。

8.根据权利要求7的方法,其中所述空心元件的直径为所述孔口直径的3-50倍,并且为10mm或更少。

9.根据权利要求1的方法,其中所述空心元件长30-300mm。

10.根据权利要求1的方法,其中所述流体所受的压力为5×103-3×104kPa。

11.根据权利要求10的方法,其中所述压力为2×104-3×105kPa。

12.根据权利要求1的方法,其中所述待分散物料为酞菁染料。

13.根据权利要求1或12的方法,其中所述酞菁染料为在CuKα特征X-射线衍射中在27.1° Bragg角度(2θ±0.2°)处具有强峰的氧钛酞菁颜料。

14.根据权利要求13的方法,其中所述酞菁染料为在CuKα特征X-射线衍射中在9.0°、14.2°、23.9°和27.1°的Bragg角度(2θ±0.2°)处有强峰的氧钛酞菁颜料。

15.根据权利要求1的方法,其中所述待分散物料为偶氮颜料。

16.根据权利要求15的方法,其中所述偶氮颜料选自下式(1)-(6)所示的化合物。

17.根据权利要求1的方法,其中所述的待分散物料为氟树脂粉。

18.根据权利要求1的方法,其中所述的被加压的流体包含所述的待分散物料和溶剂。

19.根据权利要求1的方法,其中所述的被加压的流体包含溶剂,并且不含所述的待分散物料。

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