[发明专利]用于抛光晶片的载体的储存方法

权利要求书

1.一种抛光硅晶片所用载体的存储方法，其特征在于，在晶片抛光工序中与晶片一起使用之前，把所述载体完全浸入存储在含去离子水的液体中。

2.根据权利要求1的方法，其特征在于，所述液体的温度在约20℃～80℃的范围内。

3.根据权利要求2的方法，其特征在于，对所述液体进行过滤循环净化。

4.根据权利要求3的方法，其特征在于，所述液体基本上全部是去离子水。

5.根据权利要求4的方法，其特征在于，对所述晶片两个表面同时进行抛光。

6.根据权利要求1的方法，其特征在于，所述液体是含有去离子水作为其基本部分的混合物。

7.根据权利要求6的方法，其特征在于，所述混合物包括表面活性剂，其含量在混合物中的去离子水总重量的约0.1-5％的范围。

8.根据权利要求6的方法，其特征在于，所述混合物包括氨水和过氧化氢。

9.根据权利要求6的方法，其特征在于，所述混合物包括氨水、过氧化氢和表面活性剂，含量在混合物中的去离子水总重量的约0.1-5％的范围。

10.根据权利要求8的方法，其特征在于，所述混合物的pH值约是7-12。

11.根据权利要求9的方法，其特征在于，所述混合物的pH值约是7-12。

12.根据权利要求6的方法，其特征在于，所述混合物的温度在约20℃-80℃的范围内。

13.根据权利要求12的方法，其特征在于，对所述混合物进行过滤循环净化。