[发明专利]生产具有均匀层厚的光学层的方法

权利要求书

1．一种生产厚度均匀的光学层的方法，特征是，利用溶胶-凝胶法制备涂覆组合物，包括高沸点溶剂，并基于无机的或有机改性的无机成分，使用平面喷射装置将上述组合物喷涂在基质上，随后进行热处理。

2．根据权利要求1的方法，特征是，在向基质上喷射的涂覆组合物时，将湿的薄膜厚度要调整到使其厚度至少8倍于最终干膜厚度的厚度。

3．根据权利要求1或2的方法，特征是，湿薄膜的厚度设定为800nm～100μm。

4．根据权利要求1～3中任一项的方法，特征是，干膜的厚度设定为100nm～10μm。

5．根据权利要求1～4中任一项的方法，特征是，高沸点溶剂可使用选自二元醇、乙二醇醚、聚乙二醇、聚乙二醇醚、多元醇、萜类，及其二种或多种混合物。

6．根据权利要求1～5中任一项的方法，特征是，以涂覆组合物的液相体积计算，高沸点溶剂的量为1～50％。

7．根据权利要求1～6中任一项的方法，特征是，涂覆组合物的固体成分是无机的或有机改性的无机氧化物成分。

8．根据权利要求7的方法，特征是，氧化物成分选自SiO₂、TiO₂、ZrO₂、PbO、B₂O₃、Al₂O₃、P₂O₅、碱金属氧化物、碱土金属氧化物、氧化铈、氧化钼、氧化钨和氧化钒。

9．根据权利要求7或8的方法，特征是，有机改进的氧化物成分选自钠米级氧化物颗粒，该颗粒具有另外可聚合的或可缩合的表面基团。

10．根据权利要求1～9中任一项的方法，特征是，涂覆组合物包括，选自纳米颗粒、固化催化剂、染料、颜料、颜料前体和表面活性剂的另外成分。

11．根据权利要求1～10中任一项的方法，特征是，热处理包括层的干燥，如果需要的话，固化和/或致密(烧结)和/或煅烧。

12．根据权利要求1～11中任一项的方法，特征是，在热处理前或干燥后，施加到基质上的层，可通过模压法、光刻法、全息照相术、电子束光刻法或激光直接书写法等方法形成微观结构。

13．根据权利要求1～12中任一项的方法，特征是，可向基质上依次施加二层或更多层。