[发明专利]正性敏射线的树脂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一个新的正性敏射线的树脂组合物，更确切说，涉及一个含有敏射线的酚醛清漆树脂的正性敏射线的树脂组合物，它适用于制备半导体，液晶显示板的显示表面，以及热压头的电路底物等。

背景技术

在制备半导体集成电路，如LSI，制备液晶显示板的显示表面，以及制备热压头的电路底物等的技术领域中，人们广泛使用照相平版法以形成微型元件或实施精细加工。在照相平版法中，可用正性或负性的敏射线的树脂组合物以形成(光致)抗蚀图形。在敏射线的树脂组合物，人们最常用一些含有碱溶性树脂和醌二叠氮化物光敏剂的组合物作为正性敏射线的树脂组合物。作为上述组合物，人们已记载过许多具有不同通式的组合物，例如在日本专利审定公开第23570／1979号(美国专利No．US3，666，473)，日本专利审定公开第30850／1981号(美国专利No．4，115，128)，日本专利未审定公开第73045／1980号，第205933／1986号和第51459／1987号等文献中都描述过“酚醛清漆树脂／醌二叠氮化物”。

迄今人们对含有酚醛清漆树脂和醌二叠氮化合物的上述组合物的研究已涉及酚醛清漆树脂和光敏剂，关于酚醛清漆树脂，人们已开发一些新的树脂。此外，人们也可制备具有优良性能的敏射线的树脂组合物，其中改进了现有的树脂的性能。例如，日本未审定专利公开文献第140235／1985号和第105243／1989号描述了具有优良性能的敏射线的树脂组合物，其中使用了具有特别的分子量分布的酚醛清漆树脂；日本未审定专利申请公开文献第97347／1985号，第189739／1985号和日本专利公开第2590342号描述了使用一种除去其中的低分子量组份的酚醛清漆树脂。

随着技术的不断发展，人们已能制备出许多的正性敏射线的含有醌二叠氮化物的树脂组合物，而且敏射线树脂的涂敷厚度与相隔行宽的宽高比例也得到改进，即约为5∶1。

另一方面，在制备半导体元件等工业中，半导体元件的集成电路的集成程度也一年比一年提高。因此需要加工一些其行宽小于微米级的图形。在需要上述超精细加工的应用中，必须有好的图形重现性与高的分辨性，而且考虑到生产成本，也需要改进生产中的生产能力(每单位时间的产量)。因此，提高敏射线的树脂组合物的敏感性和减少对过程的尺寸精度的依赖性也是重要的因素。然而，现有的敏射线树脂组合物不能同时满足这些要求，因此它们是不完善的。

本发明的目的是提供一种敏射线树脂组合物，它能同时满足上述的所有的传统所希望的特性。也就是说，具有高敏感性和高分辨性的敏射线树脂组合物，它能形成具有高的宽高比例的良好图形，而且在生产中也具有良好的生产能力，在过程中对尺寸精度的依赖性较少。

本发明的描述

经过长期的研究，本发明人发现上述目的可以实现，即使用一种含有专门的敏射线酚醛清漆树脂和专门的溶解抑制剂的正性敏射线树脂组合物。本发明基于上述发现。

因此，本发明涉及一种敏射线树脂组合物，它含有(ⅰ)一种敏射线酚醛清漆树脂，其中包含有一种经分馏除去其低分子量组份的碱溶性酚醛清漆树脂与邻萘醌二叠氮化物的反应产物，或一种对碱溶性酚醛清漆树脂与邻萘醌二叠氮化物的反应产物进行分馏除去其中的低分子量的组份后所获得的产物和(ⅱ)一种包含有由下列通式(Ⅰ)表示的，并具有酚式羟基的低分子量化合物的溶解抑制剂：式中的R₁，R₂，R₃，R₄，R₅，R₆与R₇各自独立地表示H，一个C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基，环己基或具有下列通式的基团：式中的R₈表示H，一个C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基或环己基；m和n各自为0，1或2；a，b，c，d，e，f，g和h各自为0或一个1-5的整数，其中a+b≤5，c+d≤5，e+f≤5，g+h≤5；而i是0，1或2。

下文将进一步描述本发明。