[发明专利]含有铍的II-VI型蓝-绿激光二极管无效

专利信息
申请号: 97195749.5 申请日: 1997-01-16
公开(公告)号: CN1223022A 公开(公告)日: 1999-07-14
发明(设计)人: 托马斯·J·米勒;迈克·A·哈斯;保罗·F·博德;迈克·D·帕施雷 申请(专利权)人: 明尼苏达矿业和制造公司;飞利浦电器公司
主分类号: H01S3/19 分类号: H01S3/19
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程伟
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含有 ii vi 激光二极管
【说明书】:

政府权利

根据陆军部/军事研究局以及国防发展研究规划署授予的第DARPA/ARO DAAH 04-94-C0049号合同,美国政府对本发明具有一定的权利。本发明的技术背景

本发明涉及半导体激光二极管。更确切地讲,本发明涉及一种由Ⅱ-Ⅵ族半导体材料制成的蓝-绿激光二极管。

传统上的激光二极管产生红外光和红色光线。但是在许多商业应用上激光二极管以较短的波长发光,比如,在频谱中的蓝和绿的部分(即:波长在590至430毫微米之间)会有广泛的应用。此外,这种短波长的激光二极管可能会增加现存的、目前使用红外和红色光线激光二极管的系统的特性与能力。

人们已经在努力研制蓝-绿激光二极管。比如,于1996年4月30日颁发给Haase等人的名称为蓝-绿激光二极管的美国专利第5,513,199号就是一例。这一文献描述了一种蓝-绿激光二极管,它采用一种Ⅱ-Ⅵ族分别约束的异质结构(SCH)。通常这种激光二极管在一GaAs基片上制成,并且除了假晶量子井和通常包括有松弛锌碲的p型触点之外,所有叠层都与该基片晶格匹配。在这种激光中,光输出在515毫微米波长上,而该导引层和包覆层都与镓砷基片晶格匹配,并且分别具有2.72和2.85eV的带隙。该激光二极管使用量子井和处在高压缩应力之下的锌碲叠层。

这种特殊结构看起来颇具前景,且室温连续波激光寿命具有100小时以上的记录。但是,人们更希望增加蓝-绿激光二极管的寿命、可靠性和输出。因而曾有人提议将铍(Be)和碲(Te)一起使用以制成如美国专利第5,422,902号所描述的阻性触点(ohmic contact)。此外,还对BeTe和铍镁BeMgZnSe合金的生长以及基本的兰色发光二极管的制作有过了描述。但是,本领域内还缺少以掺入Be的方式制成的激光二极管来构成可用设备。

本发明的概述

本发明是Ⅱ-Ⅵ族化合物分别约束的异质结构半导体激光二极管,它包括有若干构成PN结的Ⅱ-Ⅵ族半导体叠层。这些叠层包括含有铍的第一导电型Ⅱ-Ⅵ族半导体的第一包覆层。在该第一包覆层之上的Ⅱ-Ⅵ族半导体第一导引层覆。在该第一导引层之上的Ⅱ-Ⅵ族半导体活性层,在该活性层之上的第二Ⅱ-Ⅵ族半导体导引层。该活性层可以包括量子井活性层或多重量子井活性层。第二Ⅱ-Ⅵ族半导体包覆层包括有铍,并且属第二导电型,同时覆在该第二导引层之上。

附图简要说明

图1是一幅表示本发明Ⅱ-Ⅵ族半导体激光二极管结构的截面图(不按比例)。

图2表示本发明的、相对带隙的各种组成的晶格常数。

图3是图1所示装置的发光-电流-电压曲线图。

图4是表示本发明另一实施例的、具有N型触点的Ⅱ-Ⅵ族半导体激光二极管的结构图。

较佳实施例的详细说明

现有技术中的激光二极管特性不佳,其成因是多方面的。在现有技术的激光二极管中,由于在其结构中存在有硫,因此很难控制三重和四重叠层的组合成分。同样,在生长室出现的硫会导致通常发生在GaAs/ZnSe界面上的叠积断层的问题。此外,在现有技术激光二极管中,p型触点的寿命不足,这可能是ZnTe和GaAs之间较高(8%)的晶格失配的结果。

本发明在激光二极管中采用了铍(Be),这一做法带来了许多好处。具体地说,在导引和包覆层中以铍取代硫具有若干益处。

根据本发明的激光二极管10的结构如图1所示。激光二极管10是宽带隙Ⅱ-Ⅵ族的装置,它在镓砷基片上由分子束取向附生(MBE)的异质外延叠层所构成。激光二极管10在镓砷基片12上制造,并且分别包括由镉锌硒量子井活性叠层18所分隔开的下方(第一)和上方(第二)铍锌硒光导层14和16。光导层14和16的表面与活性叠层18相对,并分别由下方(第一)和上方(第二)铍镁锌硒包覆层20和22所结合在一起。下方ZnSe:Cl缓冲层24设置在下方包覆层20的表面上,与光导层14相对。上方BeTn:N/ZnSe阻性触点34设在与光导层16相对的上方包覆层22的表面上。

镓砷缓冲叠层18将基片12与下方ZnSe:Cl缓冲叠层24分离开以保证该触点和后续生长出的叠层的高晶体品质。p型触点34由ZnSe:N叠层26、ZnSe/BeTe:N阶梯层36以及BeTe:N层38组成。电极41被设置为与叠层38作电触接。此外,电极40用于触接与下方缓冲24相对的镓砷基片12。叠层20和24皆为搀杂有氯的n型(即:属于第一导电型)。此外,叠层22和26皆为搀杂氮的p型(即:属于第二导电型)。活性叠层18是镉锌硒半导体的未经搀杂的量子井叠层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于明尼苏达矿业和制造公司;飞利浦电器公司,未经明尼苏达矿业和制造公司;飞利浦电器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97195749.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top