[发明专利]去除黑头的片状面膜剂及其制造方法无效
| 申请号： | 97120680.5 | 申请日： | 1997-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN1183956A | 公开（公告）日： | 1998-06-10 |
| 发明（设计）人： | 星优;铃木荣次;冈部秀晃 | 申请（专利权）人： | 林特克株式会社 |
| 主分类号： | A61K7/48 | 分类号： | A61K7/48 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 去除 黑头 片状 面膜 及其 制造 方法 | ||
1、去除角质填塞物的片状面膜剂，其特征在于，将具有透气性及挠性的基材层和以乙酸乙烯酯与N-乙烯基-2-吡咯烷酮的共聚物作为主成分的面膜剂层层叠而构成。
2、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，上述共聚物的平均分子量是1万～50万。
3、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，上述共聚物中的乙酸乙烯酯和N-乙烯基-2-吡咯烷酮的共聚比为5∶95～95∶5。
4、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，上述面膜剂层中的上述共聚物的含量是20～90％(重量)。
5、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，在上述面膜剂层中，含有乙酸乙烯酯的均聚物和/或N-乙烯基-2-吡咯烷酮的均聚物。
6、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，上述基材层由多孔质材料构成。
7、权利要求6所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，上述面膜剂层的构成物质含浸或埋入上述基材层的一部分中。
8、权利要求7所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，在上述基材层与上述面膜剂层粘合侧的面上施加亲水化处理。
9、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，上述面膜剂层是采用涂布法或转印法形成的。
10、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，在上述面膜剂层中，包含具有对上述共聚物起增塑作用的增塑剂。
11、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，在上述面膜剂层中，含有填充材料。
12、权利要求1所述的去除黑头的片状面膜剂，其特征在于，在上述面膜剂层中，含有由低级醇和/或水组成的溶剂。
13、去除黑头的片状面膜剂的制造方法，其特征在于，在具有透气性及挠性的基材层的一面上，涂布以乙酸乙烯酯和N-乙烯基-2-吡咯烷酮的共聚物作为主成分的面膜剂，形成面膜剂层。
14、权利要求13所述的去除黑头的片状面膜剂的制造方法，其特征在于，在上述面膜剂中，含有乙酸乙烯酯的均聚物和/或N-乙烯基-2-吡咯烷酮的均聚物。
15、去除黑头的片状面膜剂的制造方法，其特征在于，在具有透气性及挠性的基材层的一面上，采用转印法粘合以乙酸乙烯酯和N-乙烯基-2-吡咯烷酮的共聚物作为主成分的面膜剂构成的面膜剂层。
16、权利要求15所述的去除黑头的片状面膜剂的制造方法，其特征在于，在上述面膜剂中，含有乙酸乙烯酯的均聚物和/或N-乙烯基-2-吡咯烷酮的均聚物。
17、去除黑头的片状面膜剂的制造方法，它是在具有透气性和挠性的基材层上粘合以乙酸乙烯酯和N-乙烯基-2-吡咯烷酮的共聚物作为主成分的面膜剂构成的面膜剂层，其特征在于，包括以下各步骤：
在转印体上形成上述面膜剂层的步骤，
对上述面膜剂层和/或上述基材层加水的步骤，
将上述面膜剂层转印粘合到上述基材层的一面上，对这两层进行加压的步骤。
18、去除黑头的片状面膜剂的制造方法，它是在由具有透气性和挠性的多孔质材料构成的基材层上粘合以乙酸乙烯酯和N-乙烯基-2-吡咯烷酮的共聚物作为主成分的面膜剂构成的面膜剂层，其特征在于，包括以下各步骤：
在转印体上形成上述面膜剂层的步骤，
对上述面膜剂层和/或上述基材层加水的步骤，
将上述面膜剂层转印粘合到上述基材层的一面上，通过对这两层进行加压，使上述面膜剂层的构成物质含浸或埋入上述基材层的一部分中的步骤。
19、权利要求18所述的去除黑头的片状面膜剂的制造方法，其特征在于，在上述面膜剂中，含有乙酸乙烯酯的均聚物和/或N-乙烯基-2-吡咯烷酮的均聚物。
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