[发明专利]减少氧化物提高亮度的低压电子束激发磷光体的显示装置无效

专利信息
申请号: 97112572.4 申请日: 1997-06-26
公开(公告)号: CN1169455A 公开(公告)日: 1998-01-07
发明(设计)人: 近藤阳二郎;鲇沢俊彦;森英人;山下修;兼古和夫;碓井正之;平井佳纪;林正人;真野泰広;森正喜;石立健一;内村胜典 申请(专利权)人: 日本电气株式会社;日亚化学工业株式会社
主分类号: C09K11/84 分类号: C09K11/84
代理公司: 中科专利代理有限责任公司 代理人: 卢纪,张祥龄
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 减少 氧化物 提高 亮度 低压 电子束 激发 磷光体 显示装置
【权利要求书】:

1.一种低压电子束激发磷光体的显示装置(10),它包括一个真空腔(1、2和3)、一个具有一主表面并封闭在所述真空腔中的阳极(6)、一层形成在所述主表面上的磷光膜(7)、以及一个对着所述磷光膜封闭在所述真空腔中用于向所述阳极发射低压电子束以激发所述磷光膜发光的阴极(9),所述磷光膜包括一种导电材料和一种磷光体,所述磷光体主要由一种硫氧化物和一通过生产所述装置在所述磷光体表面上必然形成的氧化物组成,所述硫氧化物是用Ln2O2S∶R表示的,其中Ln为从包括Gd、La、Y和Lu的一族中选出的至少一种,而其中的R是一稀土元素,其特征在于,所述磷光体中所述氧化物的数量最多为20×10-5摩尔/平方米。

2.按照权利要求1所述的一种低压电子束激发磷光体的显示装置,其特征在于,所述氧化物是由所述硫氧化物成分Ln2O2S改变而成,并用Ln2O2表示的。

3.按照权利要求1所述的一种低压电子束激发磷光体的显示装置,其特征在于,当用Gd2O2S∶R表示所述硫氧化物时,所述磷光体中所述氧化物的数量最多为1.5×10-5摩尔/平方米。

4.按照权利要求1所述的一种低压电子束激发磷光体的显示装置,其特征在于,当用Y2O2S∶R表示所述硫氧化物时,所述磷光体中所述氧化物的数量最多为0.05×10-5摩尔/平方米。

5.一种生产低压电子束激发磷光体的显示装置(10)的方法,所述显示装置包括一个真空腔(1、2和3)、一个具有一主表面并封闭在所述真空腔中的阳极(6)、一层形成在所述主表面上的磷光膜(7)、以及一个对着所述磷光膜封闭在所述真空腔中用于向所述阳极发射低压电子束以激发所述磷光膜发光的阴极(9),所述方法包括在构成所述真空腔的一绝缘基座(1)上形成所述阳极的阳极形成步骤,其特征在于,所述方法包括:

一制备一磷光体的制备步骤,所述磷光体主要由一种硫氧化物和一通过制备所述磷光体在所述磷光体表面上必然形成的氧化物组成,所述硫氧化物是用Ln2O2S∶R表示的,其中Ln为从包括Gd、La、Y和Lu的一族中选出的至少一种,而其中的R是一稀土元素;

一从所述磷光体中去除所述氧化物以产生去除氧化物的磷光体的去除步骤;

一在所述阳极的主表面上涂复一层糊料的涂复步骤,所述糊料包括所述去除氧化物的磷光体、一导电材料和一自溶型粘结剂的混合物;

一在非氧化气氛中加热所述糊料的粘结剂以在所述阳极的主表面上形成所述磷光膜的粘结剂加热步骤,所述磷光膜包括所述去除氧化物的磷光体和所述导电材料;以及

一将所述阳极和所述阴极封装在所述真空腔中以获得一制成的低压电子束激发磷光体显示装置的封装步骤。

6.按照权利要求5所述的一种方法,其特征在于,所述氧化物是由所述硫氧化物成分Ln2O2S改变而成,并用Ln2O3表示的。

7.按照权利要求5所述的一种方法,其特征在于,所述自溶粘结剂是从包括聚乙烯氧化物和聚丙烯树脂的一组中选出的至少一种。

8.按照权利要求5所述的一种方法,其特征在于,所述去除步骤包括一用酸腐蚀所述氧化物以产生所述去除氧化物的磷光体的腐蚀步骤。

9.按照权利要求5所述的一种方法,其特征在于,所述去除步骤包括一在一非氧化气氛中加热所述磷光体以从所述磷光体中去除所述氧化物用以产生所述去除氧化物的磷光体的磷光体加热步骤。

10.按照权利要求9所述的一种方法,其特征在于,在所述磷光体加热步骤中的非氧化气氛是从碳的还原气氛、氢和一惰性气体混合的还原气氛以及氮的中性气氛中选出的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电气株式会社;日亚化学工业株式会社,未经日本电气株式会社;日亚化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97112572.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top