[发明专利]等离子显示板及其制造方法无效
| 申请号: | 97109785.2 | 申请日: | 1997-05-06 | 
| 公开(公告)号: | CN1095184C | 公开(公告)日: | 2002-11-27 | 
| 发明(设计)人: | 崔洛宪;玉道永;金镇满;卞得寿 | 申请(专利权)人: | 现代等离子股份有限公司 | 
| 主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;H01J17/49 | 
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 杨梧 | 
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 等离子 显示 及其 制造 方法 | ||
1.一种等离子显示板的制造方法,其特征在于该方法包括以下步骤:
提供具有边缘部分和多个带状型沟的透明绝缘衬底;
在所述各沟的沟底的表面上依次形成沿带状沟的纵向延伸布置的透明电极和荧光体层;
以牺牲层全面涂敷所得结构,形成平坦的牺牲层上表面;
在衬底的边缘部分,在所述涂敷的牺牲层中形成多个使所述透明绝缘衬底的部分表面露出的穿孔;
在所述穿孔和所述牺牲层的整个表面沉积电极材料层,以将所述穿孔充分埋没;
对沉积的电极材料层进行有选择的蚀刻,形成垂直于所述的透明电极的电极,该电极包括埋没所述穿孔的电极材料部分;
除去牺牲层,以在透明电极和垂直于透明电极的电极之间形成间隔。
2.根据权利要求1所述的等离子显示板的制造方法,其特征在于,所述透明绝缘衬底是玻璃衬底。
3.根据权利要求1所述的等离子显示板的制造方法,其特征在于,所述的沟的形成步骤包括:在透明绝缘衬底上涂敷感光膜,通过照相蚀刻工序形成感光膜图案的步骤;对露出的透明衬底以规定的深度进行各向异性蚀刻的步骤;除去感光膜图案的步骤。
4.根据权利要求3所述的等离子显示板的制造方法,其特征在于,所述透明绝缘衬底的蚀刻是采用等离子体的干式蚀刻。
5.根据权利要求1所述的等离子显示板的制造方法,其特征在于,所述的牺牲层是聚酰亚胺。
6.根据权利要求1所述的等离子显示板的制造方法,其特征在于,所述的透明电极是铟锡氧化物。
7.一种等离子显示板,其特征在于,该显示板包括:
一透明绝缘衬底,其具有边缘部分,在所述边缘部分之间的多个带状型沟、以及在所述沟之间提供的起隔板作用的部分;
透明纵电极,其沿沟底纵向布置;
在所述透明纵电极上形成的荧光体层;
间隔地排列成带状的横电极,其与所述透明纵电极垂直;以及
位于衬底的边缘部分的支持体,用于支持横电极。
8.根据权利要求7所述的等离子显示板,其特征在于,所述横电极和所述支持体包含同一材料。
9.根据权利要求8所述的等离子显示板,其特征在于,所述同一材料是铝。
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