[发明专利]基本上异构体纯的α－双肟的制备方法

权利要求书

1.基本上异构体纯的式I_aα-双肟的制备方法，

R¹O-N＝CR²-CR³＝N-OR⁴    Ia式中N＝C双键上的R¹O-和R²基相互是顺式的，各基团有下述含义：

R¹和R⁴是氢或C-有机基团；

R²是氢、氰基、硝基、羟基、氨基、卤素，或可直接地或经由氧、硫或氮原子连接在上述结构上的有机基；

R³是氢、氰基、硝基、羟基、氨基、卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、烷基氨基、二烷基氨基或环烷基；

该方法包括，在有机溶剂中用路易斯酸处理α-双肟I_a和I_b异构体的混合物，其中在式I_a中，R¹O-和R²-基团在C＝N双键上相互呈顺式；在式I_b中，R¹O-和R²-基团在C＝N双键上相互呈反式

R¹O-N＝CR²-CR³＝N-OR⁴    R¹O-N＝CR²-CR³＝N-OR⁴

     “顺式”                                            “反式”

         I_a                      I_b    。

2.根据权利要求1的基本上异构体纯的式I_aα-双肟的制备方法，其中权利要求1中所列的式I_bα-双肟-其中N＝C双键上的R¹O-和R²-基团相互是反式的-在有机溶剂中用路易斯酸处理。

3.根据权利要求1的基本上异构体纯的式I_a’α-双肟的制备方法，

R¹O-N＝CR²-CR³＝N-OR⁴    Ia’式中N＝C键上的R¹O-和R²-基团及R³-和-OR⁴基团各相互是顺式的，其中在有机溶剂中用路易斯酸处理α-双肟I_a’和I_b’异构体的混合物

R¹O-N＝CR²-CR³＝N-OR⁴    R¹O-N＝CR²-CR³＝N-OR⁴

“顺式”         “顺式”                       “反式”      “顺式”

        I_a’                                         I_b’

4.根据权利要求3的基本上异构体纯的式I_a’α-双肟的制备方法，其中权利要求3中所列的式I_b’α-双肟-其中N＝C双键上的R¹O-和R²基团相互是反式的、且C＝N双键上的-R³和-OR⁴基团相互是顺式的-在有机溶剂中用路易斯酸处理。

5.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中使用质子惰性的有机溶剂。

6.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中反应在-40℃-150℃下进行。

7.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中使用的路易斯酸是第3或第4主族的半金属或金属或过渡金属的卤化物。

8.根据权利要求7的方法，其中使用的路易斯酸是硼、铝、锡、锌、铁或钛的卤化物。