[发明专利]磁记录媒体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及具有高矫顽力的磁记录媒体及其制造方法。本发明的磁记录媒体特别适合用于硬磁盘，软磁盘和磁带等。

背景技术

业已知道，已有的磁记录媒体及其制造方法包括下面的技术。

图11是作为已有的磁记录媒体的一个实例的硬磁盘的示意图。在图11中，图11(a)为磁记录媒体的整体斜视图，图11(b)为沿图11(a)中的A-A’线的局部剖面图。

基体1是这样形成的，即在Al基板2的表面上设置非磁性(Ni-P)层3。之后，在该基板1上依次层叠Cr衬层4，强磁性金属层5以及保护层6。

通过电镀法或溅射法在下述Al基板2表面上形成非磁性(Ni-P)层3，从而形成基体1，该Al基板2为圆盘形，其直径为89mm(3.5  英寸)、厚度为1.27mm(50密耳)。另外，通过机械研磨处理，在非磁性(Ni-P)层3表面上形成呈同心圆形的痕迹(后面称为纹理)。一般来说，非磁性(Ni-P)层3的表面粗糙度，即沿半径方向测定时的平均中心线粗糙度Ra为5nm～15nm。此外，Cr衬层4和强磁性金属层5(一般为Co合金系磁性膜)通过溅射法形成于上述基体1的表面上，最后通过溅射法形成碳等构成的保护层6，对强磁性金属层5的表面进行保护。典型的每个层的厚度为下述值，即非磁性(Ni-P)层3：5μm～15μm，Cr衬层4：50nm～150nm，强磁性金属层5：30nm～100nm，保护层6：20nm～50nm。

具有上述层结构的已有的磁记录媒体是在下述的条件下制造的，该条件为：溅射成膜之前的成膜室所达到的真空度为10^-7乇，并且成膜时所用的Ar气体中的杂质浓度在1ppm以上。

在上述制造方法中，在制造具有高矫顽力的磁记录媒体的场合，广泛采用在构成强磁性金属层的Co合金系磁性膜中包括Pt元素的工艺。包括上述Pt元素的Co合金系磁性膜还具有下述的优点，即在进行大批量生产时保持稳定，从而很容易制造具有高矫顽力的媒体。但是，未包括Pt元素的Co合金系磁性膜例如与CoCrTa膜相比较，具有下述的问题。

1.制造成本较高。

2.电磁转换特性中的媒体噪音较大。因此，会产生S/N比值降低的趋向。

国际专利申请PCT/JP94/01184号公报中公开了解决上述问题的技术。上述文献描述了一种磁记录媒体及其制造方法，该磁记录媒体在不采用高价的强磁性金属层的情况下，具有高的矫顽力，并且价格较低。在该文献中公开了下述的技术，即通过金属衬层在基体表面上形成强磁性金属层，在磁通反转型磁记录媒体中，使成膜时所使用的Ar气体中的杂质浓度保持在10ppb以下，从而使金属衬层或/和强磁性金属层中的氧浓度在100ppm(重量)以下。另外，上述文献还可指出，由于在形成上述金属衬层之前，使用其杂质浓度在10ppb以下的Ar气体，通过高频溅射法对上述基体表面进行清理处理，将上述基体表面去除0.2nm～1nm，这样可进一步增加矫顽力。

但是为了使磁记录媒体实现高密度记录，还必须进行高频记录。在此场合，单位长度的磁通反转次数会趋向进一步增加。即，相当于1位的位长度变短。另外由于磁道宽度也必须较窄，这样记录1位的面积不得不更小。

上述位面积的减小存在更容易受到由磁通反转造成的转化区域的影响，即成为低的S/N比(S表示记录信号，N表示媒体噪音)的倾向。

因此，希望提供一种下述的高矫顽力磁记录媒体及其制造方法，该磁记录媒体即使在位面积较小的情况下，仍可实现具有较大矫顽力的磁化特性曲线。

本发明的第1目的在于提供一种下述的磁通反转型磁记录媒体，在其基体表面上通过或不通过由Cr形成的金属衬层，设置由Co合金形成的强磁性金属层，而且上述金属衬层或/和上述强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下，由于在该磁记录媒体中设置有α层和β层，从而在不依赖于基体材质的情况下，可稳定地获得高的矫顽力。

另外，本发明的第2目的在于提供一种下述的磁记录媒体制造方法，该方法通过稳定地制作α层和β层，从而可形成具有高矫顽力的强磁性金属层。

发明的公开