[发明专利]用于光刻胶的防反射涂料组合物及在基片上制作图象的方法

权利要求书

1.一种用于光刻胶的水溶的防反射涂料组合物，此涂料的折射指数为自大于1.20至1.40，此涂料组合物包含含有下列单元的共聚物：a)式中X是CO₂L，SO₃L，OH，CO(OC₂H₄)_xOH，CONHC(CH₃)₂CH₂SO₃L，PO₃L₂或CONH₂，此处L＝H，I族或II族阳离子或NH₄⁺，以及X＝0-10，

b)

式中Y是氟或含氟脂族有机取代基，式中R＝H，卤素，CF₃，C₁-C₈烷基或CN。

2.根据权利要求1所述的防反射涂料组合物，其特征在于它包含CH₂＝CH-CO-O-(CH₂)₂(CF₂)_x-CF₃与丙烯酸的共聚物，这里X＝7至11。

3.根据权利要求1所述的防反射涂料组合物，其特征在于Y是COO(CH₂)_x(CF₂)_nCF₃，SO₂O(CH₂)_x(CF₂)_nCF₃，SO₂(OC₂H₄)_xO(CH₂)_x(CF₂)_nCF₃，CO(OC₂H₄)_xO(CH₂)_x(CF₂)_nCF₃

或

CO(OCH-CH₂)_xO(CH₂)_x(CF₂)_nCF₃

CH₂Cl

其中脂族链可以是支化的或不支化的；

n＝0-14；及X＝0-10。

4.根据权利要求1所述的防反射涂料组合物，其特征在于它还包含表面活性剂。

5.根据权利要求4所述的防反射涂料组合物，其特征在于表面活性剂包括全氟辛酸铵，全氟辛酸的胺盐，全氟辛酸的四甲基铵盐，全氟辛烷磺酸铵，氢氧化铵/四甲基氢氧化铵或月桂基硫酸铵。

6.一种在基片上制作图像的方法，包括以下步骤：

a)在基片上提供一层光刻胶膜；

b)用权利要求1的溶液涂覆光刻胶模；

c)以成像的方式使光刻胶曝光并用一种含水碱性显影剂显影。

7.根据权利要求1所述的防反射涂料组合物，其特征在于防反射涂料组合物是用水或含水碱性显影剂除去的。